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在芯片制造領(lǐng)域,光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻,光刻機是芯片制造的魂,蝕刻機是芯片制造的魄,如果要想制造的芯片,這兩個東西都必須。
而在光刻機方面,與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭,但ASML終究是背后霸主,贏家,因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上,目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片,這在全世界尚無先例,它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源,實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。
抗蝕刻層:
抗蝕刻層大概為油墨或濕膜二種,現(xiàn)階段有店家發(fā)布了噴墨打印機復(fù)印抗蝕刻油墨,但精度是不是能做到產(chǎn)品規(guī)定,必須靠慮。 油墨的包裝印刷方法比較多,能夠依據(jù)不一樣的產(chǎn)品開展選 擇,大致而言有下列幾類: 傳統(tǒng)式手動式或全自動包裝印刷:只有單雙面包裝印刷。 絲網(wǎng)印刷機:優(yōu)勢較為顯著,施膠速度更快,可單雙面施膠或兩面途布。 曝光機: 曝光機現(xiàn)階段大概有幾種,一是傳統(tǒng)式風(fēng)冷式小輸出功率的曝光機,像這類曝光機精度差,低,只適合做簡易的標(biāo)識牌產(chǎn)品。 若想做的產(chǎn)品,提議功率大的水冷式曝光機,或LED平行面曝光機。此2款型號都有優(yōu)點和缺點,水冷式曝光機輸出功率大,耗能高。而LED曝光機是屬冷光燈曝光機,耗能低,精度也罷,但是就是說價錢較為高。但這2款型號,燈源也平穩(wěn),產(chǎn)品合格率也高。但實際采用哪家能夠依據(jù)分別要求開展挑選。
產(chǎn)品特點
1.激光蝕刻為干式蝕刻,加工制程簡單,所有加工均由軟件自動控制,產(chǎn)品一致性高,良率高達99%,無耗材,環(huán)保,可靠穩(wěn)定。
2.CCD相機自動定位,加工精度高。
3.設(shè)備操作簡單,圖檔更新方便,制程縮短,稼動率高。
4.設(shè)備控制軟件能夠?qū)崿F(xiàn)自動圖檔分割,移動拼接加工,拼接精度可達±3μm
5.耗電量省,操作人員少,無污染,生產(chǎn)成本低。
蝕刻機特性、金屬材料蝕刻機特性總的有:
1、蝕刻機選用齒輪傳動,做霧化自噴,合理配置;生產(chǎn)加工規(guī)格長短不限定,速度更快、;
2、蝕刻機方便使用:合理地設(shè)計方案自噴與被蝕刻金屬片的合理總面積和蝕刻勻稱水平;蝕刻實際效果、速率和作業(yè)者的自然環(huán)境及便捷水平等層面都是有改進;應(yīng)用充足,大幅度降低產(chǎn)品成本;
3、蝕刻速率在傳統(tǒng)式蝕刻法上進一步提高:經(jīng)不斷試驗噴涌工作壓力在1-2
kg/cm
2
的狀況下被蝕刻鋼件上所殘余的蝕刻圬漬能被合理清處掉;
4、蝕刻機生產(chǎn)廠家可依據(jù)顧客規(guī)定,有對于的訂制非標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格和特性:如搖擺式、窗式、抽拉式、旋轉(zhuǎn)式、斜面式、傾斜面式、冷卻(中央空調(diào)冷卻或放水循環(huán)系統(tǒng)冷卻)等;
5、蝕刻機可組配蝕刻線:顯影機、蝕刻機、退膜機;
6、蝕刻機大批量辦公標(biāo)識標(biāo)牌流水線作業(yè):配備全自動風(fēng)干電烤箱,全自動兩面顯影機,自動上色機,制版機,電鍍工藝機。