正壓氦所質(zhì)譜檢漏儀報(bào)價(jià)服務(wù)為先 華誠(chéng)浩達(dá)

氦質(zhì)譜檢漏儀概述

氦質(zhì)譜檢漏儀為氣體工業(yè)領(lǐng)域名詞術(shù)語(yǔ)，用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測(cè)氦氣而進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過(guò)漏孔并易擴(kuò)散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設(shè)備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調(diào)整到僅對(duì)氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。

氦質(zhì)譜檢漏儀是如何工作的？

氦質(zhì)譜檢漏儀由離子源、分析器、真空系統(tǒng)、電子線路及其他電氣部分組成。為了方便解釋氦質(zhì)譜檢漏儀是如何工作的，我們以磁偏轉(zhuǎn)型的氦質(zhì)譜檢漏儀為例進(jìn)行說(shuō)明。

在質(zhì)譜室的離子源N內(nèi)，氣體被電離成離子。在電場(chǎng)作用下離子聚焦成束，并以一定的速度經(jīng)由縫隙S1進(jìn)入磁分析器，在均勻磁場(chǎng)的作用下，具有一定速度的離子束，將按圓形軌跡運(yùn)動(dòng)。調(diào)節(jié)加速電壓U使氦離子束M2恰能通過(guò)縫隙S2到達(dá)收集極K而形成離子流。利用弱電流量測(cè)設(shè)備，使之在輸出儀表與音響裝置上反映出來(lái)。而其他不同于M2的離子束（如圖中M1，M3）則以不同的偏轉(zhuǎn)半徑而被分開(kāi)。

氦質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)

氦質(zhì)譜檢漏儀離子源的作用是使氣體分子電離，形成一束具有一定能量的離子。它由燈絲(陰級(jí))、離化室及離子加速極組成。

燈絲在真空中通電加熱后發(fā)射電子，在離化室與燈絲之間的電場(chǎng)作用下，電子加速穿過(guò)離化室頂部狹縫進(jìn)入離化室，在離化室中與氣體分子發(fā)生多次碰撞后損失能量，Z后打到離化室上形成電子流，成為發(fā)射電流的一部分。電子在運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中碰撞氣體分子而使氣體分子電離形成正離子，正離子在離化室與加速極之間的電壓U(即離子加速電原)作用下，相繼穿過(guò)離化室正面的矩形狹縫和加速極的矩形狹縫，由于加速電場(chǎng)對(duì)離子做的功轉(zhuǎn)變?yōu)殡x子的動(dòng)能，便形成具有一定能量的離子束。

真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái)，在罩內(nèi)充滿(mǎn)一定濃度的氦氣，可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。