高真空鍍膜機(jī)廠家-至成鍍膜設(shè)備-揚(yáng)州鍍膜機(jī)

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過(guò)程的均勻性到底多重要？厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發(fā)功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率.對(duì)于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問(wèn)題，但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

真空計(jì)是真空磁控濺射鍍膜機(jī)器上有什么作用

真空計(jì)：真空計(jì)是真空磁控濺射鍍膜機(jī)器上的重要組成部分，它是檢測(cè)鍍膜機(jī)真空度的重要手段。真空計(jì)根據(jù)其工作原理可以分為真空計(jì)和相對(duì)真空計(jì)，真空計(jì)可以直接測(cè)量壓強(qiáng)的高低，相對(duì)真空計(jì)只能間接測(cè)量真空度。蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子蒸發(fā)兩種方式作介紹，因?yàn)榇藘煞N方式我應(yīng)用的比較多。電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點(diǎn)在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。成膜控制系統(tǒng)，薄膜監(jiān)控目前應(yīng)用方式比較多，主要有：目視監(jiān)控法，定（極值）值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時(shí)間監(jiān)控等等。本人主要介紹目視監(jiān)控、定（極值）監(jiān)控和水晶振蕩監(jiān)控三種。目視監(jiān)控也叫直接監(jiān)控，就是采用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。

如何提高為了提高機(jī)器的鍍層厚度的均勻性

為了提高機(jī)器的鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng)裝置，如用行星運(yùn)動(dòng)方式，這種運(yùn)動(dòng)方式成膜均勻性好，臺(tái)階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動(dòng)方式。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時(shí)間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)。