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AF鍍膜機廠家-韶關鍍膜機-至成鍍膜機生產廠家

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發(fā)布時間:2021-12-09 04:03  








磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高?這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。通常在健身過程中,經過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時候,會產生電子發(fā)射,而這些在陰極表面產生的電子開始向陽極加速進入負輝光區(qū),和中性氣體原子進行碰撞,產生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大,隨著氣壓的增大而減小,特別是在遠離陰極的地方產生,它們的熱壁損失也是非常大的,這主要是因為其離化效率低。因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠將初始電子限制在陰極范圍內,能夠有效的增加氣體原子的梨花效率,從而提高磁控濺射鍍膜設備的濺射效率。


真空電鍍和水電鍍的區(qū)別

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別1、簡單來說,真空電鍍不過油,其附著力很差,無法過百格TEST,而水電鍍的明顯好于真空電鍍!因此,為保證真空電鍍的附著力,均需后續(xù)進行特殊的噴涂處理,成本當然高些。2、水電鍍顏色較單調,一般只有亮銀和亞銀等少數幾種,對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。3、水電鍍一般的鍍層材質采用“六價鉻”,這是非環(huán)保材料。對于“六價鉻”有如下的要求:歐盟:76/769/EEC:禁止使用;94/62/EC:<100ppm;ROHS:<1000ppm如此嚴格的要求,國內一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”;而真空電鍍使用的鍍層材質廣泛、容易符合環(huán)保要求。


真空鍍膜機蒸發(fā)系統(tǒng)介紹


真空鍍膜機蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分,鍍膜機器的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式,鄙人就電阻加熱和電子蒸發(fā)兩種方式作介紹,因為此兩種方式我應用的比較多。

電阻蒸發(fā)根據其結構和工作原理是目前為止應用多,廣泛的蒸發(fā)方式,也是應用時間長的蒸發(fā)方式。它的工作方式是,將鎢片做成船狀,然后安裝在兩個電極中間,在鎢舟中央加上藥材,再緩緩給電極通電,電流通過鎢舟,鎢舟通電發(fā)熱,這些低電壓,大電流使高熔點的鎢舟產生熱量,再熱傳導給鍍膜材料,當鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點的時候,材料就升華或者蒸發(fā)了,此方法由于操作方便,結構簡單,成本低廉,故被很多設備應用,但是其蒸發(fā)出來的薄膜由于致密性不佳,加上很多材料無法采用這種方式蒸鍍,所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時候,材料的熔點必須小于鎢舟的熔點,否則就沒有辦法進行。


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