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磁控濺射鍍膜設(shè)備如何使用效率才高?這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。通常在健身過程中,經(jīng)過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時候,會產(chǎn)生電子發(fā)射,而這些在陰極表面產(chǎn)生的電子開始向陽極加速進(jìn)入負(fù)輝光區(qū),和中性氣體原子進(jìn)行碰撞,產(chǎn)生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大,隨著氣壓的增大而減小,特別是在遠(yuǎn)離陰極的地方產(chǎn)生,它們的熱壁損失也是非常大的,這主要是因為其離化效率低。因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠?qū)⒊跏茧娮酉拗圃陉帢O范圍內(nèi),能夠有效的增加氣體原子的梨花效率,從而提高磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射效率。
真空電鍍和水電鍍的區(qū)別1、簡單來說,真空電鍍不過油,其附著力很差,無法過百格TEST,而水電鍍的明顯好于真空電鍍!因此,為保證真空電鍍的附著力,均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些。2、水電鍍顏色較單調(diào),一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種,對于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。3、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”,這是非環(huán)保材料。對于“六價鉻”有如下的要求:歐盟:76/769/EEC:禁止使用;94/62/EC:<100ppm;ROHS:<1000ppm如此嚴(yán)格的要求,國內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價鉻”來替代“六價鉻”;而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。
真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)介紹
真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分,鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多,有電阻加熱、電子蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式,鄙人就電阻加熱和電子蒸發(fā)兩種方式作介紹,因為此兩種方式我應(yīng)用的比較多。
電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應(yīng)用多,廣泛的蒸發(fā)方式,也是應(yīng)用時間長的蒸發(fā)方式。它的工作方式是,將鎢片做成船狀,然后安裝在兩個電極中間,在鎢舟中央加上藥材,再緩緩給電極通電,電流通過鎢舟,鎢舟通電發(fā)熱,這些低電壓,大電流使高熔點的鎢舟產(chǎn)生熱量,再熱傳導(dǎo)給鍍膜材料,當(dāng)鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點的時候,材料就升華或者蒸發(fā)了,此方法由于操作方便,結(jié)構(gòu)簡單,成本低廉,故被很多設(shè)備應(yīng)用,但是其蒸發(fā)出來的薄膜由于致密性不佳,加上很多材料無法采用這種方式蒸鍍,所以其有一定局限性。鎢舟蒸發(fā)鍍膜材料的時候,材料的熔點必須小于鎢舟的熔點,否則就沒有辦法進(jìn)行。
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