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氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展
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例如火箭發(fā)動(dòng)機(jī)及姿態(tài)發(fā)動(dòng)機(jī),過去是打壓刷肥皂水檢漏,現(xiàn)在重新改進(jìn)工藝用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏,采用正壓吸槍與氦罩法結(jié)合,使檢漏靈敏度大大提高,從而保證了發(fā)動(dòng)機(jī)質(zhì)量?;鸺w的檢漏采用正壓吸槍、氦罩法、累集法等幾種方法的結(jié)合。由于檢漏技術(shù)的應(yīng)用,提高了檢漏靈敏度,彌補(bǔ)了吸入法檢漏時(shí)儀器靈敏度低的不足。
氦質(zhì)譜檢漏儀
待機(jī)時(shí)電離室真空度保持在≤3x10-2Pa,燈絲不易被氧化脆斷。在檢漏過程中,當(dāng)出現(xiàn)意外情況,系統(tǒng)突然暴露大氣或真空度突然降低,導(dǎo)致大量的氣體突然進(jìn)入電離室,真空度≥1x10-1Pa時(shí),燈絲電流急劇增大,燈絲被碳化,就發(fā)生了脆斷現(xiàn)象。
氦質(zhì)譜檢漏儀燈絲壽命如何延長(zhǎng)?有前面分析已知,造成氦質(zhì)譜檢漏儀燈絲脆斷的原因:1.真空度低;2.燈絲電流過大;3.對(duì)燈絲有害的氣體氣壓太高(氧化性氣體、水蒸氣、氫氣)。那么,在使用中盡量避免燈絲在上述惡劣環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間開啟,或者說盡量提高燈絲的上述使用條件就可以有效延長(zhǎng)氦質(zhì)譜檢漏儀的燈絲壽命。如:1.使用中盡量將預(yù)置真空開關(guān)空擋;2.避免電離室泄入有害氣體(氧化性氣體、水蒸氣、氫氣)。
質(zhì)譜法基本原理
質(zhì)譜,又稱質(zhì)譜法(mass spectrometry,MS),是通過不同的離子化方式,將試樣(原子或分子)轉(zhuǎn)化為運(yùn)動(dòng)的氣態(tài)離子,并按照質(zhì)荷比(m/z)大小進(jìn)行分離檢測(cè)的分析方法,是一種與光譜并列的譜學(xué)方法。根據(jù)質(zhì)譜圖上峰的位置和相對(duì)強(qiáng)度大小,質(zhì)譜可對(duì)無(wú)機(jī)物、有機(jī)物和生物大分子進(jìn)行定性和定量分析。Thomson JJ于1906年發(fā)明質(zhì)譜,并運(yùn)用于發(fā)現(xiàn)非性同位素和無(wú)機(jī)元素分析。20世紀(jì)40年代以后開始用于有機(jī)物分析。Thomson JJ于1906年發(fā)明質(zhì)譜,并運(yùn)用于發(fā)現(xiàn)非性同位素和無(wú)機(jī)元素分析。20世紀(jì)40年代以后開始用于有機(jī)物分析。80年代初期,快原子轟擊電離的應(yīng)用,是質(zhì)譜更好的運(yùn)用于生物化學(xué)大分子。90年代以來(lái),隨著電噴霧電離和基質(zhì)輔助激光解吸電離的應(yīng)用,已形成生物質(zhì)譜學(xué)一新學(xué)科[1]。目前,質(zhì)譜法已經(jīng)日益廣泛的應(yīng)用于原子能、化學(xué)、電子、冶金、、食品、陶瓷等工業(yè)生產(chǎn)部門,農(nóng)業(yè)科學(xué)研究部門,以及物理、電子與離子物理、同位素地質(zhì)學(xué)、有機(jī)化學(xué)等科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域[2]。
質(zhì)譜法的基本原理是試樣分子或原子在離子源中發(fā)生電離,生成各種類型帶電粒子或離子,經(jīng)加速電場(chǎng)的作用獲得動(dòng)能形成離子束;進(jìn)入質(zhì)量分析儀,在其中再利用帶電粒子在電場(chǎng)或磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)軌跡的差異,將不同質(zhì)荷比的離子按空間位置或時(shí)間的不同而分離開;然后到達(dá)離子將離子流轉(zhuǎn)變?yōu)殡娦盘?hào),得到質(zhì)譜圖。
質(zhì)譜儀基本結(jié)構(gòu),化合物的質(zhì)譜是由質(zhì)譜儀測(cè)得的。質(zhì)譜儀是使分析試樣離子化并按質(zhì)荷比大小進(jìn)行分離、檢測(cè)和記錄的儀器。一般質(zhì)譜儀由進(jìn)樣系統(tǒng),離子源,質(zhì)量分析儀,離子及信號(hào)放大記錄系統(tǒng)組成
真空法氦質(zhì)譜檢漏原理
真空法氦質(zhì)譜檢漏原理:
采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。
真空法檢漏有何優(yōu)點(diǎn):真空法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高,可以定位漏孔,能實(shí)現(xiàn)大容器或復(fù)雜結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的檢漏。
真空法檢漏缺點(diǎn):真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現(xiàn)一個(gè)大氣壓差的漏率檢測(cè),不能真實(shí)反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。
用途:真空法的檢測(cè)主要應(yīng)用于真空密封性能要求,但不帶壓工作的產(chǎn)品,如空間活動(dòng)部件、液氫槽車、環(huán)境模擬設(shè)備等。