【廣告】
化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單,能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件,生產(chǎn)?;瘜W(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序,也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。
為了進(jìn)行化學(xué)拋光,必須使零件表面的凸部比凹部?jī)?yōu)先溶解,因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來(lái)認(rèn)識(shí)。
半導(dǎo)體材料的化學(xué)拋光,如鍺和硅等半導(dǎo)體基片在機(jī)械研磨平整后,還要終用化學(xué)拋光去除表面雜質(zhì)和變質(zhì)層。常用和、硫酸混合溶液或和氫氧化銨的水溶液。
本工藝處理出來(lái)的產(chǎn)品可以獲得高于傳統(tǒng)酸洗數(shù)倍的拋光效果,容易控制及掌握,環(huán)保,無(wú)強(qiáng)酸,遠(yuǎn)離有酸霧、濃煙、異味的工作環(huán)境。達(dá)到企業(yè)化學(xué)拋光的清潔生產(chǎn)要求。
化學(xué)拋光一般是指在化學(xué)溶液中,不接通外部電源,利用化學(xué)侵蝕對(duì)工件表面進(jìn)行拋光的一個(gè)過(guò)程。在化學(xué)拋光進(jìn)行時(shí),從微觀層面看,因?yàn)椋饘俦砻鏁?huì)形成類(lèi)似電解拋光過(guò)程中形成的黏膜或者鈍化膜,所以,是表面微觀凸出部分的溶解速度,要明顯大于微光凹入部分,所以,提升了零件表面微觀平整度,從而達(dá)到零件表面的光亮平整。
不銹鋼化學(xué)拋光價(jià)格
化學(xué)拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件,可以拋光內(nèi)表面和形狀復(fù)雜的工件,不需要外加電源、設(shè)備,操作簡(jiǎn)單、成本低。
近年來(lái)已開(kāi)始轉(zhuǎn)向用化學(xué)拋光或電化學(xué)拋光作為首飾品的中間或終加工工序。由于基體金屬大都為價(jià)格低廉的金屬材料,用拋光的方法除去基體表面的不平整比用昂貴的金屬鍍層來(lái)填平合算得多,這就為拋光技術(shù)的應(yīng)用敞開(kāi)了大門(mén),其應(yīng)用領(lǐng)域?qū)㈦S著時(shí)間的推移而越來(lái)越廣。機(jī)械研磨拋光是將被研磨面的凸部用切削,磨耗或者塑性變形等方式除去,獲得平滑光亮表面的過(guò)程。不銹鋼化學(xué)拋光價(jià)格