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發(fā)布時(shí)間:2021-01-13 14:25  







PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來(lái),真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī),指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。PVD鍍膜技術(shù)的原理:PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù),其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。



具有摩擦系數(shù)較低,耐磨損,膜層應(yīng)力小好等優(yōu)點(diǎn)。用途:潤(rùn)滑涂層,成型模具,鋁合金等粘結(jié)性強(qiáng)材料沖壓模具。⑥ZrN:ZrN不含Ti和Cr的單成膜,有較高的耐熱性,涂層顏色艷麗,在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤(積屑瘤)。⑦AL(L):zui新劈裂電弧涂層,含Si納米復(fù)合涂層,極高抗熱性能,適合硬切削,納米硬度4300Hv,納米厚度1~3μm。摩擦系數(shù)0.3。zui高應(yīng)用溫1200℃。加工硬度可達(dá)65HRC。用途:特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT:zui新劈裂電弧涂層,納米厚度1-3μm,加工硬度可達(dá)58HRC。用途:特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。



PVD涂層(鍍膜)技術(shù)原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,在電場(chǎng)的作用下,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應(yīng)物沉積在工件上。涂層性質(zhì)(如硬度、結(jié)構(gòu)、耐化學(xué)和耐溫性、結(jié)合力)可以被jing確地控制。(2)工藝特點(diǎn):在PVD工藝中的高純度固體涂層材料(金屬如鈦、鉻和鋁)既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊(濺射)來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應(yīng)性氣體(例如氮?dú)饣蚝細(xì)怏w);之后形成含金屬蒸氣的復(fù)合物,并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉(zhuǎn)固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。


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