【廣告】
磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢(shì)
磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型,有中頻的,也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛,如:手提電腦、手機(jī)殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢(shì)也是非常的凸顯.
磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置,磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等,設(shè)備沉積速率快,鍍層附著力好,鍍層細(xì)膩致密,表面光潔度高,且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制,裝載量大,工作可靠,合格率高,生產(chǎn)成本低,綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè),可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。
磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜,同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜,增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化,應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。
連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備
該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì),提供全套設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。
該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì),提供全套鍍膜設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。
優(yōu)勢(shì):設(shè)備模組化設(shè)計(jì),易拆卸,維修,保養(yǎng);高靶材利用率;高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率;環(huán)保制程無污染及環(huán)保問題;高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求;整廠輸出:單片式玻璃觸控面板整廠輸出;CIGS整廠輸出;整廠輸出;卷對(duì)卷ITO膜整廠輸出;太陽能整廠輸出;電致變色整廠輸出;
裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求
裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求,可施涂底涂層和面涂層,或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護(hù)涂層等。這些涂層的主要作用是: 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法,在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜,可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度,提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度,不一定厚度涂料的整平性,可以填補(bǔ)鍍件表面的缺陷,使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。 能保護(hù)金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm,膜層的耐磨性和抗變色能力較差,施涂面涂層后,鍍膜層與外界不直接接觸,對(duì)鍍膜層能起保護(hù)作用。