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真空鍍膜是指鈦、金、石墨、晶體等金屬或非金屬、氣體等材料在真空中濺射、蒸發(fā)或離子鍍?cè)诨w上的表面處理工藝。真空鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)鍍法相比,具有無污染環(huán)境、環(huán)保環(huán)保、對(duì)操作人員無危害、膜厚牢固、致密、耐腐蝕性強(qiáng)、膜厚均勻等優(yōu)點(diǎn)。
真空鍍膜加工表面的清洗解決很關(guān)鍵,會(huì)直接危及到電鍍工藝的產(chǎn)品質(zhì)量。加工件進(jìn)到真一定要保證鍍之前清洗干凈,表面污染來源于產(chǎn)品工件在加工、傳送、包裝過程中所黏附的各種各樣粉塵、潤(rùn)滑油、 汽車機(jī)油、拋光蠟、植物油脂、汗?jié)n等物。
膜層具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)、表面細(xì)膩光滑并富有金屬光澤同時(shí)顏色均勻一致,大幅度提高工件的外觀裝飾性能。膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.2μm ~ 5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.2μm ~ 2μm ,因此真空鍍膜廠家可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能。膜層抵抗力強(qiáng),在常規(guī)環(huán)境下具有、,不失去光澤、耐磨損、耐刮擦、不易劃傷,且可鍍材料廣泛,與基體結(jié)合力強(qiáng)。