AF鍍膜設(shè)備多重優(yōu)惠 至成鍍膜設(shè)備量身訂制

DLC真空鍍膜機(jī)有哪些種類,分別運(yùn)用到哪些領(lǐng)域

DLC真空鍍膜機(jī)只是鍍膜機(jī)里面屬于金剛石行業(yè)的類型設(shè)備，真空鍍膜機(jī)在不同行業(yè)里，即有著相對(duì)應(yīng)行業(yè)不同的類型設(shè)備，自然運(yùn)用也是略有不同。大家可能平時(shí)接觸比較少，聽(tīng)它的名字，就只知道，一般運(yùn)用到金屬行業(yè)會(huì)偏多。別看叫DLC真空鍍膜機(jī)，但是它也是要細(xì)分好多種型號(hào)，不同型號(hào)的設(shè)備，鍍的產(chǎn)品是不一樣的，自然效果也就不一樣。

它應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。并且他是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備，DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細(xì)密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開(kāi)DLC真空鍍膜設(shè)備。

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)工作的特點(diǎn)是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定中頻設(shè)備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣會(huì)使電導(dǎo)發(fā)熱，所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到、率控制溫度的目的，因?yàn)樽匀凰退岫疾豢杀苊獾厥艿阶匀粴鉁氐挠绊?，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會(huì)產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對(duì)原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過(guò)渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對(duì)玻璃的污染。同時(shí)可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動(dòng)能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度（B）對(duì)膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場(chǎng)垂直的水平磁場(chǎng)強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌?chǎng)強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個(gè)均勻的數(shù)值。而實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中值是隨著使用方法及時(shí)間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過(guò)的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗(yàn)證。

電子束光學(xué)鍍膜機(jī)有哪些特點(diǎn)

在玻璃/PMMA/PC基片上形成光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。

基片傘架采用了每分鐘可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

采用坩堝上沒(méi)有極片的電子束加熱方式(2臺(tái)電子槍，10kW型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。

采用本公司獨(dú)有的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控，可以形成且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。

可利用操作性良好的升降機(jī)來(lái)取出基片傘架。