異形工件鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家服務(wù)至上

鍍膜機廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來說，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因為傳統(tǒng)的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監(jiān)測方法。

真空電鍍機維修注意事項

在制造時候，由于成品是需要在較高的真空度下進行鍍膜的。所以制造時要嚴(yán)格保證真空電鍍機的密封性，密封性足夠才能形成真空環(huán)境。

由于很多的真空電鍍機會采用濺射的方式進行鍍膜，所以在使用的過程中帶有一定的危險性，所以要求操作人員必須擁有一定的同類產(chǎn)品操作經(jīng)驗和嚴(yán)格的安全防護措施。

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磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

可鍍材料廣泛

離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.

直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設(shè)備更加了解。