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可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版,也廣泛地被使用于減輕重量?jī)x器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展,亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工,特別在半導(dǎo)體制程上,蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。1、蝕刻:利用蝕刻液與bai銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要du的銅,得到zhi所要求的線路。
2、曝光dao:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上。
3、顯影:通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。
實(shí)際曝光bai能量需根據(jù)干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時(shí)間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準(zhǔn);線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。
曝光時(shí)必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;
顯影時(shí),顯影點(diǎn)控制在50 --70%以內(nèi),壓力1.5--2.0kg/cm2。
曝光過度會(huì)導(dǎo)致顯影不凈;曝光能量不足會(huì)導(dǎo)致顯影過度。
導(dǎo)致的原因較多,通??紤]UV光是否正常,即曝光機(jī)是否工作正常。
預(yù)烘烤時(shí)間過長(zhǎng)也會(huì)導(dǎo)致顯影不凈。
蝕刻液有問題或濃度較低等等都會(huì)導(dǎo)致時(shí)刻不凈。
總之就是從兩方面考慮:油墨有問題,顯影液正常;油墨沒問題顯影液異常;或者兩者都異常。
板子過顯影線的線速(即顯影時(shí)間)通常會(huì)影響,線速過快就會(huì)顯影不凈。