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熒光測(cè)厚儀服務(wù)為先

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發(fā)布時(shí)間:2020-09-07 05:56  







一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀方法,即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀形式的膜厚,通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。




江蘇一六儀器   X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

儀器簡(jiǎn)介

      XTU系列測(cè)厚儀雖然結(jié)構(gòu)緊湊,但是都有大容量的開槽設(shè)計(jì)樣品腔,即使超過(guò)樣品腔尺寸的工件也可以測(cè)試。

    搭配微聚焦射線管和先進(jìn)的光路設(shè)計(jì),以及變焦算法裝置,可測(cè)試極微小和異形樣品。

    檢測(cè)78種元素鍍層·0.005um檢出限·測(cè)量面積可達(dá)0.002mm2·深凹槽可達(dá)90mm。

     外置的高精密微型滑軌,可以快速控制樣品移動(dòng),移動(dòng)精度0.005mm,速度10-30mm(X-Y)/圈,再小再多的樣品測(cè)試都沒(méi)有難度,讓操作人員輕松自如。

應(yīng)用領(lǐng)域


  線路板、引線框架及電子元器件接插件檢測(cè)

  鍍純金、K金、鉑、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析

  手表、精密儀表制造行業(yè)

  釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB        

  汽車、五金、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè)

  衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS)

  電鍍液的金屬陽(yáng)離子檢測(cè)







   江蘇一六儀器有限公司  專業(yè)鍍層測(cè)厚檢測(cè)   歡迎來(lái)電詳詢! 

  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試,厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定,通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較,被測(cè)元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān),而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法,具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速,方便,測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì),特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。如:地質(zhì)礦產(chǎn),冶金、化工、材料、石油勘探、考古、合金、土壤、鍍層等諸多行業(yè)。是目前應(yīng)用為廣泛,具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。


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