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電子特氣系統(tǒng)的維護

由于特氣系統(tǒng)是一種具有高風險的供應系統(tǒng)，因此在生產線現(xiàn)場的維護需要專業(yè)、有經驗的技術員完成。特氣系統(tǒng)的維護主要包含氣體柜維護和管路維護。

（1）特氣柜又分為全自動特氣柜與半自動特氣柜，每種氣柜的維護方法有一定的區(qū)別。全自動氣柜維護自動化程度較高，并且安全可靠。4、壓縮空氣在管路上有過濾雜質和水分的凈化裝置，此凈化裝置需要并聯(lián)一路，用單獨的閥門隔離，以方便對過濾裝置進行維修。在維護前關閉鋼瓶閥門，設置換瓶吹掃，程序自動進行抽氣，置換等動作，根據氣體性質的不同，一般至少吹掃60次以上，負壓保壓30分鐘以上，確保氣柜各管路與閥門吹掃干凈。

（2）管路的維護，由于不同的氣體性質不一樣，對管路維護的方法也不相同，對腐蝕性氣體的管道需要多次用高純氮氣吹掃（N2purge），一般至少反復30次，對于有吸附性的液態(tài)源氣體，由于管路容易堵塞，需要多次的反復的抽真空，抽完后關閉閥門，1小時后會出現(xiàn)壓力表回表的現(xiàn)象，會造成管道泄漏的誤導，遇到此情況打開真空器發(fā)生器繼續(xù)抽，直到沒有吸附氣體釋放為止。閥門是在流體系統(tǒng)中，用來控制流體的方向、壓力、流量的裝置，是使配管和設備內的介質(液體、氣體、粉末)流動或停止并能控制其流量的裝置。

以上兩種系統(tǒng)維護后都必須做正壓與負壓的保壓測試，一般正壓保壓壓力為使用壓力的1.2倍，負壓保壓為-12PSI，保壓時間至少120分鐘以上，由于壓力傳感器（PT）受溫度的影響，一般有2PSI的正負波動。

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試驗室供氣需求

目前大多數試驗室中的各種分析儀器如氣相色譜儀、氣相色譜質譜儀、液相色譜質譜儀、原子吸收分光光度計、原子熒光光度計、等離子發(fā)射光譜儀、電感耦合等離子質譜儀等都需要連續(xù)使用高純載氣和燃氣，因此試驗室的安全、連續(xù)、穩(wěn)定運行需要我們考慮如何將這些氣體供到各試驗室中放置的分析儀器。高純氣體的輸送管路系統(tǒng)隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0。

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試驗室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點

針對過去使用中存在的問題，現(xiàn)代試驗室對載氣的使用環(huán)境進行了改革，即 “集中供氣系統(tǒng)”，即將使用氣體（以下簡稱載氣）集中貯存，然后通過壓差的原理將氣體經過金屬或其他材質管路送至用氣點。其優(yōu)點主要有以下幾點：

1、首先解決氣瓶的放置問題。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗室相對獨立的房間，如果與試驗室在同一大樓內，則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨立的房間，這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離，即使有害氣體有泄漏，也不會發(fā)生直接傷害。它們的投資規(guī)模巨大，采用最1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出最嚴格的要求。

2、其次氣體混合的問題。將所有載氣氣瓶根據氣體性質分別集中在一個氣瓶間中與助燃氣體分開存貯。

3、再次是解決氣瓶壓力的問題。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個出口統(tǒng)一減壓后運送氣體至使用點。多種氣體在同一個環(huán)境下使用，如果有兩種會發(fā)生燃燒或爆1炸等強烈化學反應的氣體同時泄漏，就可能對工作人員以及儀器設備造成傷害。因為氣瓶間是相對獨立的，整個氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處，因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險縮小至氣瓶間內，可對人體及儀器的傷害可降到1低。

電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏方法

特氣系統(tǒng)氣體管道氦檢漏的順序宜采用內向檢漏法、閥座檢漏法、外向檢漏法。

1、內向檢漏法(噴氦法)采用管道內部抽真空，外部噴氦氣的方法檢漏，測試管路系統(tǒng)的泄漏率。

2、閥座檢漏法采用閥門上游充氦氣，下游抽真空的方法檢漏，測試管路系統(tǒng)的泄漏率。

3、外向檢漏法(吸槍法)應采用管路內部充氦氣或氦氮混合氣，外部應采用吸槍檢查漏點的方法檢漏，測試管路系統(tǒng)的泄漏率。