【廣告】
磁控濺射鍍膜設備濺射方式
繞鍍能力強
離子鍍時,蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動,因而凡是有電場存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此,這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機,能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。
鍍層質量好
離子鍍的鍍層組織致密、無、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復,不致形成金屬瘤。像螺紋一類的零件也能鍍復,由于這種工藝方法還能修補工件表面的微小裂紋和麻點等缺陷,故可有效地改善被鍍零件的表面質量和物理機械性能。疲勞試驗表明,如果處理得當,工件疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三十。
主要的鍍膜濺射方式有哪些?
磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產,那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。
磁控濺射鍍膜設備原理解析
主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.
現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.
直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現象.
而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.
如果尋找本質區(qū)別是:直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.
以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式,希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。