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光學鍍膜機應用范圍及光學鍍膜技術原理
AF AR光學鍍膜機專門為層數不多,但要求產能大、的光學薄膜產品鍍膜生產而設計,適用于玻璃和塑膠光學鏡片AF、AS膜的鍍膜生產,也適用于手機視窗(玻璃或塑膠)、塑膠片材彩色光學膜的制備?,F已經廣泛投入到市場中使用,也受到眾多商家的認可和喜愛。
AF光學鍍膜機性能和原理:提高AF(防指印或稱AS防污染)真空膜層的性能,并通過提高設備產率和穩(wěn)定性、降低材料消耗來大幅降低成本。
AF光學鍍膜機適用性:除手機、平板電腦、車載顯示器等觸控產品外,也適用于在其他數碼產品、電器、衛(wèi)浴等塑膠和金屬件的裝飾和功能薄膜上加鍍AF、AS涂層,提高光滑度、易清潔性。
AF光學鍍膜機裝飾性:無論對于手機等數碼產品,還是電器、衛(wèi)浴等有相同裝飾性要求的產品,通過底層鍍制顏色膜和透明介質多層膜實現多種色彩、色調和金屬光澤,并能配合絲印、熱轉印、鐳雕和拉絲工藝,得到多種色調的炫彩光澤,加強條紋和圖案的立體視覺。
真空鍍膜技術優(yōu)點
鍍層附著性能好:普通真空鍍膜時,在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,離子高速轟擊工件時,能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時,鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現象發(fā)生,可見附著多么牢固,膜層均勻,致密。
繞鍍能力強:離子鍍時,蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動,因而凡是有電場存在的部位,均能獲得良好鍍層,這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。
因此,這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面,蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣,只能順梯而上;而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中,帶電離子則好比坐上了直升飛機,能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。
鍍層質量好:離子鍍的鍍層組織致密、無孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復,不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復,有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數)、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。
高真空蒸發(fā)鍍膜設備有哪些特點
真空蒸發(fā)鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發(fā)鍍膜裝置,是在真空室中利用電阻加熱,將金屬鍍料熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達到裝飾美化物品表面的目的。
高真空蒸發(fā)鍍膜設備具有結構合理、抽速大、工作周期短、生產、操作方便,能耗低、工作穩(wěn)定,且膜層均勻、成膜質量好等優(yōu)點。該設備主要廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。
可鍍基材表面狀態(tài):電鍍亮面、啞光面(半啞、全?。?、工藝電鍍、拉絲、雨滴等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等??筛鶕脩粢笤O計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。