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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車(chē)輛燈具注塑 鍍膜為主的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠(chǎng)家,公司秉承“以質(zhì)取勝,求真務(wù)實(shí),顧客至上”理念,歡迎廣大客戶(hù)光臨了解.
鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響:
真空度:真空度是指處于真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度,用壓強(qiáng)表示,壓強(qiáng)越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過(guò)程中,真空度主要通過(guò)控制ya氣流量來(lái)改變。
ya氣越少,靶材濺射量越少,但真空度越高,氣體分子自由程越大,散射越少,粒子碰撞幾率越小,粒子遷移過(guò)程中損失的動(dòng)量越少,沉積速率越大
金屬過(guò)渡層:過(guò)渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數(shù)等物理性能不同而形成的應(yīng)力,提高結(jié)合力,但是金屬過(guò)渡層太厚容易引起基體軟化,結(jié)合力反而會(huì)變差。
本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率,漏率越大,進(jìn)入爐內(nèi)的雜氣就越多,不管真空度多高,這會(huì)嚴(yán)重影響鍍膜過(guò)程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度,會(huì)破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。
靶基距:靶基距是影響成膜速率的重要因素之一,隨著靶基距增加,被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多,同時(shí)等離子體密度也減弱,動(dòng)能減少,沉積速率降低,但膜層外觀(guān)較好。靶基距太小,沉積太快,工件溫升大,膜層外觀(guān)差
輝光清洗:對(duì)工件施加負(fù)偏壓,產(chǎn)生輝光放電,利用ya離子轟擊工件表面,這種輝光放電清洗作用比較柔和,一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序,是怕工件太臟時(shí)一開(kāi)始就強(qiáng)轟擊,可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。