感應耦合等離子體刻蝕機價格承諾守信【創(chuàng)世威納】

感應耦合等離子體刻蝕的原理

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容，創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)感應耦合等離子體刻蝕，歡迎新老客戶蒞臨。

感應耦合等離子體刻蝕法（Inductively Coupled Plasma Etch，簡稱ICPE）是化學過程和物理過程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是在真空低氣壓下，ICP 射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈，以一定比例的混合刻蝕氣體經(jīng)耦合輝光放電，產(chǎn)生高密度的等離子體，在下電極的RF 射頻作用下，這些等離子體對基片表面進行轟擊，基片圖形區(qū)域的半導體材料的化學鍵被打斷，與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì)，以氣體形式脫離基片，從真空管路被抽走。

感應耦合等離子體刻蝕機的結(jié)構(gòu)三

創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)、銷售感應耦合等離子體刻蝕，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

供氣系統(tǒng)供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過壓力控制器（PC）和質(zhì)量流量控制器（MFC）精準的控制氣體的流速和流量。氣體供應系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統(tǒng)、混合單元等組成。

以上就是關于感應耦合等離子體刻蝕的相關內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

感應耦合等離子體刻蝕機的結(jié)構(gòu)四

真空系統(tǒng)真空系統(tǒng)有兩套，分別用于預真空室和刻蝕腔體。預真空室由機械泵單獨抽真空，只有在預真空室真空度達到設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片?？涛g腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

想了解更多關于感應耦合等離子體刻蝕的相關資訊，請持續(xù)關注本公司。

感應耦合等離子體刻蝕機的原理

如果需要進行刻蝕，和蝕刻后，除污，清除浮渣，表面處理，等離子體聚合，等離子體灰化，或任何其他的蝕刻應用，我們能夠制造客戶完全信任的等離子處理系統(tǒng)，以滿足客戶的需要。我們既有常規(guī)的等離子體蝕刻系統(tǒng)，也有反應性離子蝕刻系統(tǒng)，我們可以制造系列的產(chǎn)品，也可以為客戶定制特殊的系統(tǒng)。我們可以提供快速/高品質(zhì)的蝕刻，減輕等離子傷害，并提供的均勻性。

等離子體處理可應用于所有的基材，甚至復雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。

想要了解更多創(chuàng)世威納的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！