常州藍寶石拋光墊推薦常用指南「新光速光電」

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化學機械拋光液一般由去離子水、 磨料、ph值調節(jié)劑、氧化劑以及分散劑等添加劑組成,根據(jù)ph值不同, 分為酸性和堿性。

化學拋光液及其組分的作用.

1磨料

磨料在拋光過程中主要通過微切削、微劃擦、滾壓等方式作用于工件被加工表面,去除表面材料。的化學機械拋光過程是磨料的機械去除表面材料

厚度等于化學反應生成物層厚度,此時,磨粒只需較小的機械作用去除結合力較弱的化學反應層的生成物,可減少或避免拋光表面缺陷。磨料的硬度、粒

徑形狀及其在拋光液中的質量濃度等綜合因素決定了磨粒的去除行為和能力。

拋光(Polishing)是使工件表面成為平滑鏡面的精密加工技術，其目的在于使工件的表面粗糙度及平坦度達到一定的可容許范圍。拋光不僅增加工件的美觀，而且能夠改善材料表面的性能，增加工件的使用壽命。

目前常用的拋光方法有：

(1)機械拋光，是靠切削、材料表面塑性變形去掉工件表面凸出部分而得到平滑的拋光方法。

(2)電化學拋光，是一種以電解溶出的原理來去除金屬的拋光方法。

(3)流體拋光，是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。

(4)磁流變拋光(Magnetorheological Finishing，MRF)，是一套數(shù)控拋光系統(tǒng)，能夠拋光平面、球面及非球面。

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