在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,其配制需用純水,如純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等,就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中,玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水,每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障,影響液晶屏質(zhì)量,導(dǎo)致廢、次品。
電子水處理器產(chǎn)品特點(diǎn)
1、技術(shù)先進(jìn):共鳴場(chǎng)電子水處理技術(shù)即變頻高頻電磁場(chǎng)水處理技術(shù),國(guó)內(nèi)首創(chuàng),
2.適應(yīng)性強(qiáng):能適應(yīng)不同的水質(zhì);
3.效果顯著:與固頻產(chǎn)品比較使用效果更顯著;
4、能耗小、體積小、重量輕、阻力小;
5、壽命長(zhǎng):新型除垢儀的使用壽命達(dá)20年以上;
6、有過濾功能: II型水處理器(多功能電子水處理器)帶有過濾及反神排污功能,可省去
管理系統(tǒng)上的過濾設(shè)備。
電子水處理器技術(shù)指標(biāo)
1、輸入電源: 220/50HZ
2、適應(yīng)水質(zhì):總硬度≤1000mg / [以CaCO3計(jì));水溫≤90C;公稱壓力1.0Mpa、1.6Mpa;
流速≤2.8m/s .
3、使用性能:除垢率≥97% 防垢率≥99%;滅菌率≥95%滅藻率≥97%;腐蝕率≤
0.125mm/a有效時(shí)間》3h

產(chǎn)品介紹在電解電容器生產(chǎn)中,鋁箔及工作件的清洗需用純水,如水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中,電子管陰極涂敷碳酸鹽,因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力,每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液。

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設(shè)備的冷卻水,配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片,水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水水中細(xì)菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞,與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比,膜技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、易于自動(dòng)控制、能耗小、無(wú)污染、去除雜質(zhì)、運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn),特別是幾種膜技術(shù)的配合使用,再輔之以其他水處理工藝,如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等,為去除水中的各種雜質(zhì),滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對(duì)高純水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù),才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水。