磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家性價(jià)比高 至成鍍膜設(shè)備量身訂制

真空PVD鍍膜機(jī)涂層在中有哪些應(yīng)用?

PVD涂層可提供更好的邊緣保持力，因此涂層手術(shù)器械仍保持清晰。對(duì)于其他設(shè)備，它們可以減少配套不銹鋼部件之間的磨損，并有助于防止氧化和腐蝕。通常是四種PVD涂層。的是氮化鈦（TiN），其厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，維氏硬度范圍為2,400至2,600Hv，以及金色。第二種常見(jiàn)的涂層是鋁鈦氮化物（AlTiN），通常稱為黑色氮化物或黑色鈦涂層。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度范圍為4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外兩種涂料是氮化鉻（CrN）和Alpha。CrN的厚度范圍為0.0001至0.0005英寸，硬度范圍為2,200至2,400Hv，銀色表面處理。Alpha是一種多層涂層，其頂層具有氮化鋯（ZrN）并產(chǎn)生銀-金色。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度，范圍為4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，潤(rùn)滑性和耐磨性，這種涂層可以比TiN長(zhǎng)兩到四倍。

柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標(biāo)簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競(jìng)爭(zhēng)力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，在滿足當(dāng)今和未來(lái)市場(chǎng)需求的同時(shí)，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無(wú)限的可能性，在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力，應(yīng)用大量的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量傳感器，使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時(shí)又是非常靈活和靈活的，當(dāng)作為一個(gè)研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的?？尚D(zhuǎn)磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個(gè)過(guò)程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時(shí)運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測(cè)所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。