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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司是國(guó)內(nèi)早使用和開(kāi)發(fā)ICP光譜儀和ICP-MS的科研單位之一，依托國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心，培育了一批ICP光譜儀和ICP-MS應(yīng)用和儀器專家。ICP光譜儀產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)GB/T 36244-2018和ICP-MS儀器計(jì)量檢定規(guī)程GB/T 34826-2017的起草單位。國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位，中國(guó)ICP系列分析儀器的發(fā)展。擁有30多年ICP方法開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)，懂ICP應(yīng)用的國(guó)產(chǎn)ICP&ICP-MS制造商。免費(fèi)培訓(xùn)，解決客戶應(yīng)用方法的難題，讓您ICP光譜儀和ICP-MS用的更好！央企品牌，上市公司，品質(zhì)之選！歡迎來(lái)電洽談.

鋼研納克國(guó)產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS 300

 優(yōu)勢(shì)1——的四極桿電源驅(qū)動(dòng)技術(shù)

DDS變頻技術(shù)

自動(dòng)頻率匹配調(diào)諧，無(wú)需手動(dòng)調(diào)電容，更安全

沒(méi)有機(jī)械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動(dòng)，無(wú)需經(jīng)常校準(zhǔn)質(zhì)量軸

專利：《 一種用于四級(jí)桿質(zhì)譜儀的射頻電源》201610006009.2

PlasmaMS 300 優(yōu)勢(shì)2——的真空控制系統(tǒng)

先進(jìn)的緩沖技術(shù)，機(jī)械泵間斷運(yùn)行，儀器待機(jī)功耗極低

解決高真空腔體被機(jī)械泵油氣污染問(wèn)題，保證儀器長(zhǎng)時(shí)間性能穩(wěn)定

受專利保護(hù)《一種電磁閥緩沖、無(wú)返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7

ICP-MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜法是將被測(cè)物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后，按離子的質(zhì)荷比分離，測(cè)量各種離子譜峰的強(qiáng)度的一種分析方法。自1983 年臺(tái)商品化生產(chǎn)以來(lái)，就在不斷改善中得到廣泛應(yīng)用ICP-MS 技術(shù)的分析能力可以取代傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)、石墨爐原子吸收進(jìn)行定性、半定量、定量分析及同位素比值的準(zhǔn)確測(cè)量等。

鋼研納克PlasmaMS300電感耦合等離子體質(zhì)譜儀icp-ms是將被測(cè)物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后，按離子的質(zhì)荷比分離，測(cè)量各種離子

譜峰的強(qiáng)度的一種分析方法。是20 世紀(jì)80

年代發(fā)展起來(lái)的新的分析測(cè)試技術(shù)。它以獨(dú)特的接口技術(shù)將ICP-MS 的

高溫（7000 K）電離特性與四極桿質(zhì)譜計(jì)的靈敏快速掃描的優(yōu)點(diǎn)相結(jié)合而形成一種新型的元素和同位素分析技術(shù)，

可分析幾乎地球上所有元素。具有檢出限低，線性動(dòng)態(tài)范圍寬，譜線簡(jiǎn)單，干擾少，分析精度高，速度快，多元

素同時(shí)分析，檢測(cè)模式靈活等優(yōu)點(diǎn)。

現(xiàn)狀

ICP-MS全球裝機(jī)量已在8000臺(tái)以上，僅中國(guó)目前每年的新增裝機(jī)數(shù)就超過(guò)500臺(tái)。近三年來(lái)，國(guó)際上ICP?MS 的主要生產(chǎn)商推出了若干型號(hào)的四極桿式ICP-MS，如Agilent在2012年推出的8800型號(hào)、2014年推出的 7900型號(hào)，PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型號(hào)、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型號(hào)， 2014年德國(guó)耶拿完成對(duì)布魯克ICP-MS生產(chǎn)線的收購(gòu)，并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型號(hào)，而我國(guó)鋼研納克推出了國(guó)產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS

300 。

四極桿ICP-MS的基本結(jié)構(gòu)由進(jìn)樣系統(tǒng)、離子源、錐及離子透鏡、四極桿分析器、真空系統(tǒng)和檢測(cè)器等硬件部

分組成（部分型號(hào)還包括用以消除干擾的反應(yīng)池部分），此外還包括用于冷卻系統(tǒng)、氣體管路、儀器控制和數(shù)據(jù) 分析系統(tǒng)等支撐輔助部分。下面我們按照ICP-MS的每一個(gè)結(jié)構(gòu)部分，看近年來(lái)的技術(shù)進(jìn)展。