真空鍍膜機(jī)報價,至成鍍膜機(jī)量身訂制

光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用及應(yīng)用

光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用 光學(xué)鍍膜機(jī)可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對金屬、氧化物、化合物及其他高熔點(diǎn)膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。 光學(xué)鍍膜機(jī)應(yīng)用于觸控面板抗指紋玻璃及金屬防指紋，除了防指紋應(yīng)用外，還可應(yīng)用于防銹、防污、保護(hù)納米鍍膜。防污膜(AS)，又稱防水膜或防指紋(AF膜)，主要是通過真空鍍膜的技術(shù)將有機(jī)氟化物材料沉積到基材上，使基材表面具有防水、防油、防指紋、防污染等功能。

真空鍍膜設(shè)備的處理方法

空鍍膜設(shè)備廠家分析真空鍍膜設(shè)備的處理方法 加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。 對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至較小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備

實(shí)驗(yàn)室中使用小型鍍膜設(shè)備 我們在實(shí)驗(yàn)室中使用的基本上都是小型的鍍膜設(shè)備，下面我們就來了解一下這種設(shè)備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機(jī)。蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設(shè)備四部分組成。真空室是放置鍍件、進(jìn)行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機(jī)構(gòu)或自轉(zhuǎn)加公轉(zhuǎn)的運(yùn)動裝置，如用行星運(yùn)動方式，這種運(yùn)動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運(yùn)動方式。 排氣系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機(jī)械泵和擴(kuò)散泵之間加機(jī)械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。