磁控濺射沉積設備廠家多重優(yōu)惠「多圖」

雙室磁控濺射系統(tǒng)

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設備簡介

主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下的載片基于LabView軟件的PC計算機控制帶密碼保護功能的多級訪問控制完全的安全聯(lián)鎖功能預真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片。該系列設備主要部件采用進口或者國內優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配4只Φ2英寸永磁靶，4臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。

磁控濺射“磁控反應”介紹

磁控反應濺射絕緣體看似容易，而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面以及靶源表面，從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。樣品公轉速度對位移曲線可在線性和對數(shù)標度兩種顯示之間切換，可實現(xiàn)換位定點鍍膜。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,公司擁有強大的銷售團隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品，歡迎新老客戶蒞臨。

磁控濺射鍍膜設備是目種鍍膜產(chǎn)品，相比傳統(tǒng)的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用，現(xiàn)國內磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產(chǎn)，

經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規(guī)模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍，

磁控濺射鍍膜設備行業(yè)資深的，磁控濺射鍍膜設備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設計配置。

磁控濺射鍍膜機的特點

擅長生長高質量的薄膜或是超薄 膜, 金屬與絕緣材料.保證 的抽氣速度, 與友廠對比,氫和氧的污染系數(shù)好數(shù)十倍. 可制作與外延品質類似的薄膜..烘烤時可把磁鐵拆下以保護磁鐵不退磁. 客戶可選擇 RHEED, 在磁鐵拆下時可檢測樣品薄膜的質量. Sputter 24 均勻性及重現(xiàn)性非常出色, 可以使用DC, RF, 脈沖直流電源. 標準材料與磁性材料均可使用. 可安排成共濺射與垂直濺射, 根據(jù)需求設計安裝.

與激光加熱器聯(lián)用可變?yōu)榉磻痛趴貫R射, 可成長氧化物薄膜與氮化物薄膜等. 正下方可安裝一只離子源, 可以提供樣品清洗與輔助鍍膜.

期望大家在選購磁控濺射產(chǎn)品時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話?。。?