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凈化工程系統(tǒng)的組成部分主要有哪些

參與潔凈室項(xiàng)目的朋友可能不了解凈化項(xiàng)目的組成系統(tǒng)。 目前尚不清楚哪種系統(tǒng)組件主要用于凈化工程系統(tǒng)。 以下簡要介紹凈化工程系統(tǒng)的主要組成部分。 通過本文的介紹，我希望我的朋友能夠理解凈化項(xiàng)目。 凈化工程系統(tǒng)的組成部分主要有哪些 凈化工程的主要組成部分有六個(gè)部分：地面系統(tǒng)，風(fēng)道系統(tǒng)，自動(dòng)控制系統(tǒng)，電氣系統(tǒng)，給排水系統(tǒng)和空氣過濾系統(tǒng)。

生產(chǎn)人員清潔要求是什么

生產(chǎn)人員清潔要求是什么？ 1）每日上崗前應(yīng)在更衣室穿戴好清潔、無缺、契合不同生產(chǎn)區(qū)域工裝要求的工衣、工鞋、工帽。 2）作業(yè)前要將手洗潔凈，直接觸摸藥品的作業(yè)人員不得佩帶首飾，不得涂抹化妝品。 3）脫離作業(yè)場(chǎng)地時(shí)，有必要脫掉工衣、工鞋、工帽。 4）生產(chǎn)人員應(yīng)常常洗澡、理發(fā)、刮胡須、修剪指甲、換洗衣服，堅(jiān)持個(gè)人清潔。 5）每年進(jìn)行一次健康查看，并樹立個(gè)人健康檔案，經(jīng)查看后，凡患有流行癥、隱性流行癥、、者一概調(diào)離崗位，不得從事藥品生產(chǎn)。

潔凈技術(shù)方向發(fā)展空氣分子污染

潔凈技術(shù)方向發(fā)展 空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關(guān)心的問題于20年前由日本人提出，近年來，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對(duì)當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個(gè)數(shù)，但對(duì)AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學(xué)品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對(duì)下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計(jì)與施工建設(shè)的主流趨勢(shì)。目前，國內(nèi)的潔凈工程企業(yè)中已經(jīng)開始從事此方向的研究，在該領(lǐng)域比較的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列，而中國電子工程設(shè)計(jì)院則在防微震方面。