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化學(xué)機(jī)械拋光液一般由去離子水、 磨料、ph值調(diào)節(jié)劑、氧化劑以及分散劑等添加劑組成,根據(jù)ph值不同, 分為酸性和堿性。
化學(xué)拋光液及其組分的作用.
1磨料
磨料在拋光過程中主要通過微切削、微劃擦、滾壓等方式作用于工件被加工表面,去除表面材料。的化學(xué)機(jī)械拋光過程是磨料的機(jī)械去除表面材料
厚度等于化學(xué)反應(yīng)生成物層厚度,此時,磨粒只需較小的機(jī)械作用去除結(jié)合力較弱的化學(xué)反應(yīng)層的生成物,可減少或避免拋光表面缺陷。磨料的硬度、粒
徑形狀及其在拋光液中的質(zhì)量濃度等綜合因素決定了磨粒的去除行為和能力。
拋光(Polishing)是使工件表面成為平滑鏡面的精密加工技術(shù),其目的在于使工件的表面粗糙度及平坦度達(dá)到一定的可容許范圍。拋光不僅增加工件的美觀,而且能夠改善材料表面的性能,增加工件的使用壽命。
目前常用的拋光方法有:
(1)機(jī)械拋光,是靠切削、材料表面塑性變形去掉工件表面凸出部分而得到平滑的拋光方法。
(2)電化學(xué)拋光,是一種以電解溶出的原理來去除金屬的拋光方法。
(3)流體拋光,是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。
(4)磁流變拋光(Magnetorheological Finishing,MRF),是一套數(shù)控拋光系統(tǒng),能夠拋光平面、球面及非球面。