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手機(jī)真空納米鍍膜機(jī)的特點(diǎn)
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng),不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。
(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn),大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍,無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。
(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中,對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測(cè)量和控制,從而保證膜厚的均勻性。
瓷磚真空鍍膜設(shè)備
經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤,耐磨指數(shù)大大提高,可以生產(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設(shè)備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設(shè)備主要配置為陰極電弧蒸發(fā)源,也有配偏壓電源,也有配磁控濺射靶。設(shè)備特點(diǎn):配強(qiáng)大抽氣系統(tǒng),抽氣快,裝載量大,產(chǎn)能高,生產(chǎn)成本低??梢陨a(chǎn)仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層;采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術(shù)可以得到各種彩色花紋圖案。經(jīng)瓷磚真空鍍膜設(shè)備加工后的瓷磚更具有光澤,耐磨指數(shù)大大提高。
PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類(lèi)
PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類(lèi)—PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù),可以控制鍍出的顏色;鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色進(jìn)行測(cè)量,使顏色得以量化,以確定鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。 PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍(水電鍍)的異同PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。
影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時(shí)抽真空時(shí)間長(zhǎng)的原因
影響鍍真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時(shí)抽真空時(shí)間長(zhǎng)的原因磁控靶點(diǎn)火電壓的幾個(gè)因素 在工作氣體種類(lèi)、成分、氣壓和陰極材料已確定及其它條件不變的條件下,鍍膜機(jī)陰-陽(yáng)兩極間的氣體放電點(diǎn)火電壓的高低可由巴-刑定律來(lái)說(shuō)明,氣體點(diǎn)燃電壓Uz不僅和氣壓P、極間距d有關(guān),而且和P與d的乘積有關(guān)(即Uz是P×d乘積的函數(shù),不是單獨(dú)是P或d的函數(shù))。巴-刑曲線的左側(cè)與下側(cè)是不能形成自持放電區(qū)域;右上側(cè)是可以形成穩(wěn)定自持放電區(qū)域;磁控濺射通常工作在巴-刑曲線的左支。利用這個(gè)規(guī)律,在放電部件(磁控靶、引出電極等)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,通過(guò)調(diào)整結(jié)構(gòu)間隙的手段來(lái)控制各電極對(duì)屏蔽罩、金屬腔體間的放電和打弧。