聚焦離子束刻蝕機工作原理優(yōu)選商家「在線咨詢」

離子束刻蝕

離子束刻蝕以離子束為刻蝕手段達到刻蝕目的的技術(shù)，其分辨率限制于粒子進入基底以及離子能量耗盡過程的路徑范圍。離子束較小直徑約10nm，離子束刻蝕的結(jié)構(gòu)較小可能不會小于10nm。目前聚焦離子束刻蝕的束斑可達100nm以下，較以較快的直寫速度進行小于50nm的刻蝕，故而聚焦離子束刻蝕是納米加工的一種理想方法。此外聚焦離子束技術(shù)的另一優(yōu)點是在計算機控制下的無掩膜注入，甚至無顯影刻蝕，直接制造各種納米器件結(jié)構(gòu)。但是，在離子束加工過程中，損傷問題比較突出，且離子束加工精度還不容易控制，控制精度也不夠高。

以上就是關(guān)于離子束刻蝕的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

離子束刻蝕速率

創(chuàng)世威納——專業(yè)離子束刻蝕機產(chǎn)品供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

刻蝕速率是指單位時間內(nèi)離子從材料表面刻蝕去除的材料厚度，單位通常為A/minnm/min.刻蝕速率與諸多因素有關(guān)，包括離子能量、束流密度、離子入射方向、材料溫度及成分、氣體與材料化學反應狀態(tài)及速率、刻蝕生成物、物理與化學功能強度配比、材料種類、電子中和程度等。

離子束刻蝕的入射角

在離子束刻蝕過程中，選擇合適的入射角可以提高刻蝕效率，這只是一個方面。另一個方面是靠合適的入射角度控制刻蝕圖形的輪廓。下圖給出了不同角度的刻蝕結(jié)果。

創(chuàng)世威納公司擁有先進的技術(shù)，我們都以質(zhì)量為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業(yè)務。如果您對離子束刻蝕機產(chǎn)品感興趣，歡迎點擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。

離子束加工

離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產(chǎn)生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負極引出陽離子又經(jīng)加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產(chǎn)生濺射效應和注入效應。由于離子帶正電荷，其質(zhì)量比電子大數(shù)千、數(shù)萬倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動能，是靠微觀的機械撞擊能量來加工的。離子束加工主要特點如下：1.加工的精度非常高。2.污染少。3.加工應力、熱變形等較小、加工精度高。4.離子束加工設備費用高、成本貴、加工效率低。