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自動(dòng)磁控濺射鍍膜機(jī)原理推薦

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-17 11:01  







磁控濺射技術(shù)鍍膜

磁控濺射技術(shù)鍍膜是一種重要的物理的氣相沉積鍍膜技術(shù),這種工藝可工業(yè)化批量生產(chǎn)。本文重點(diǎn)探討了磁控濺射在光學(xué)鍍膜中的應(yīng)用,包括膜層設(shè)計(jì)和鍍膜工藝。

光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)

(1)減反射膜

減反射也稱增透膜,這種膜主要鍍?cè)谕该鞯驼凵渎驶咨希绮A襄儨p反射膜,常見(jiàn)的膜層結(jié)構(gòu)采用高、低折射率膜層疊加而成

(2)彩色鍍膜 彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜,其膜層材料和結(jié)構(gòu)類似減反射鍍膜。這種玻璃在可見(jiàn)光下透射和反射的顏色不同。

3)漸變反射膜 漸變反射膜是一種在不同角度觀察,反射的顏色不同的膜層。這種膜層可以鍍?cè)诓A?,也可以鍍?cè)诮饘倩住?

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磁控濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國(guó)1防和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,沉積速率,靶材利用率等方面的問(wèn)題是實(shí)際生產(chǎn)中十分關(guān)注的。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵。?)在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積(CVD)或金屬有機(jī)(4)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)生長(zhǎng)困難及不適用的材料薄膜沉積,而且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

磁控濺射技術(shù)發(fā)展過(guò)程中各項(xiàng)技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對(duì)等離子體進(jìn)行的控制等方面。通過(guò)對(duì)電磁場(chǎng)、溫度場(chǎng)和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制,使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。

膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān),如靶的刻蝕狀態(tài),靶的電磁場(chǎng)設(shè)汁等。

濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的標(biāo)準(zhǔn)之一,它涉及鍍膜過(guò)程的各個(gè)方面。因此,制備膜厚均勻性好的薄膜需要建立一個(gè)濺射鍍膜膜厚均勻性綜合設(shè)計(jì)系統(tǒng),對(duì)濺射鍍膜的各個(gè)方面進(jìn)行分類、歸納和總結(jié),找出其內(nèi)在聯(lián)系。

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊ya氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。

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濺射原理

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容,創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射鍍膜設(shè)備機(jī),歡迎新老客戶蒞臨。

1.1 濺射定義

就像往平靜的湖水里投入石子會(huì)濺起水花一樣,用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子(或分子)從固體表面逸出,這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。

1.2 濺射的基本原理

濺射是指具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面使其中的原子發(fā)射出來(lái)。早期人們認(rèn)為這一現(xiàn)象源于靶材的局部加熱。但是不久人們發(fā)現(xiàn)濺射與蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別,并逐漸認(rèn)識(shí)到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動(dòng)量傳遞的結(jié)果。








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