北京AR鍍膜機廠家報價 至成鍍膜設備

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。

電子束光學鍍膜機有哪些特點

在玻璃/PMMA/PC基片上形成光學多層薄膜的精密真空鍍膜機。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質更加優(yōu)良的薄膜。

基片傘架采用了每分鐘可轉60轉的中心旋轉方式(公轉)，減少產生振動和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉。

采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式(2臺電子槍，10kW型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。

采用本公司獨有的比率控制法和多點在線監(jiān)控，可以形成且穩(wěn)定的光學多層膜。

可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。

沖壓件真空鍍膜設備

工具經沖壓件真空鍍膜設備硬質涂層處理后，其性能更穩(wěn)定，可出穩(wěn)定、高質量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半徑受到磨損，顯著延長工具的使用壽命；使用壽命的延長和行程率的提高在提高生產率的同時降低了單位成本；底層堅硬而頂層摩擦低的涂層系統(tǒng)，降低了粘附磨損，從而可能減少對環(huán)境產生不良影響的潤滑劑的用量，甚至完全不使用潤滑劑；因為涂層減少了工具負荷并因而降低了破損風險，生產可靠性得以提高，對于金屬薄板成型工具，涂層可用作磨損指示器，磨損和冷焊的減少改進了工件的表面質量，也使工件能夠滿足對其外觀的更高要求，光潔度也與隨后的電鍍工藝更加相匹配。

真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發(fā)源，或配多個矩形平面電弧蒸發(fā)源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優(yōu)異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩(wěn)定性。