鎂合金微弧氧化黑色膜貨源充足「日照微弧技術(shù)」

影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對(duì)鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽(yáng)極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過(guò)拋光處理，對(duì)于粗糙的表面，經(jīng)過(guò)微弧氧化，可修復(fù)的平整光滑；對(duì)于粗糙度低（即光滑）的表面，則會(huì)增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化會(huì)有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線(xiàn)、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

液體成分對(duì)微弧氧化的影響

      電解液成分是得到合格膜層的關(guān)鍵因素。微弧氧化液一般選用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液，如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等。在微弧氧化的過(guò)程下，原來(lái)生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長(zhǎng)，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對(duì)應(yīng)的最終厚度。在相同的微弧電解電壓下，電解質(zhì)濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化電源生產(chǎn)線(xiàn)、微弧氧化電液槽

微弧氧化技術(shù)應(yīng)用前景

      微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn)，如工藝簡(jiǎn)單、不引入有毒物，符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求，對(duì)要處理的零件形狀沒(méi)有特殊要求，特別是對(duì)異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術(shù)在軍事、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車(chē)、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復(fù)合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時(shí)具備了陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。