鎮(zhèn)江真空鍍膜設(shè)備量大從優(yōu)「在線咨詢」

至成真空機(jī)械/高真空卷繞式鍍膜設(shè)備

該鍍膜設(shè)備是用于聚脂薄膜或經(jīng)過處理的紙張表面真空噴鍍金屬鋁膜的設(shè)備，在10的負(fù)2次方帕的真空氣氛中，鋁被連續(xù)加熱蒸發(fā)，在被冷卻的基材表面凝固，形成致密的金屬鋁膜，從而制成金屬化材料，用以生產(chǎn)各種金屬化包裝、裝璜及保溫絕熱材料和電氣材料。主要解決的技術(shù)問題有：

①蒸鍍紙張的真空抽氣能力;

②高速鍍膜時蒸發(fā)鋁的效率問題;

③高速卷繞時基材張力控制;

④真空抽氣過程的微機(jī)控制。其主要技術(shù)參數(shù)：鍍膜材料為：紙(35～80克/平方公尺)或薄膜12～50μ;卷繞速度180公尺/分;抽氣時間8分鐘;工作真空6.5×10的負(fù)2次方Pa;控制方式為部分微機(jī)控制。該機(jī)是國內(nèi)替代進(jìn)口同類設(shè)備的良好機(jī)型

帶鋼真空鍍膜生產(chǎn)線的技術(shù)動向

現(xiàn)有帶鋼真空鍍膜生產(chǎn)線有以下幾種：

分離型。生產(chǎn)線不包括鋼帶清洗前的處理，它將一卷經(jīng)過清洗前處理的鋼帶，放進(jìn)一個裝有開卷、預(yù)熱、鍍膜及收卷設(shè)備的密閉真空容器中，抽到一定真空度后進(jìn)行預(yù)熱，然后進(jìn)行鍍膜操作。該設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，但生產(chǎn)效率較低，處理后的鋼帶容易受到二次污染。

“空到空”全連續(xù)型。所謂“空到空”(Air-to-Air)，指的是帶鋼首先在大氣中經(jīng)過清潔處理，然后進(jìn)入真空室，進(jìn)行鍍膜，再經(jīng)增壓室回到大氣的連續(xù)式生產(chǎn)過程。

多層鍍膜型。該生產(chǎn)線采用電子束加熱真空鍍膜、真空濺射鍍膜以及等離子輔助氣相鍍膜等多種現(xiàn)代電物理鍍膜方法。帶鋼的前處理分別采用了電子束預(yù)熱清理和輝光放電等離子轟擊?？蓪ν粠т摫砻妫\(yùn)用不同鍍膜方法進(jìn)行多層鍍膜。

雖然帶鋼真空鍍膜總的來說目前仍處在發(fā)展的初級階段，成本較高而生產(chǎn)率較低，故在帶鋼表面處理中所占份額還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比，但是，其產(chǎn)品的高附加值特點(diǎn)以及其它種種優(yōu)點(diǎn)，顯示了其良好的應(yīng)用前景?，F(xiàn)在，國外已有鍍膜寬度達(dá)1.250m，帶鋼行走速度達(dá)每分鐘180m，年產(chǎn)量達(dá)30萬噸的帶鋼真空鍍膜生產(chǎn)線?？梢灶A(yù)見，它將成為鋼鐵行業(yè)持續(xù)發(fā)展的一個新的亮點(diǎn)。

真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)組成

真空鍍膜機(jī)等離子體束濺射鍍膜機(jī)主要由射頻等離子體源、真空獲得系統(tǒng)、電磁線圈（發(fā)射線圈及匯聚線圈）、偏壓電源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系統(tǒng)等部分構(gòu)成。其顯著特點(diǎn)是它的等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)，其示意圖如圖1所示。等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)是鍍膜機(jī)中的關(guān)鍵部分，其中射頻等離子體源位于真空室的側(cè)面，并在等離子體源的出口處及濺射靶材的下方分別配置有一個電磁線圈。當(dāng)兩個線圈同向通過電流時，線圈合成的磁場將引導(dǎo)等離子體源中產(chǎn)生的電子沿磁場方向運(yùn)動，從而使等離子體束被約束在磁場方向上。同時靶材加有負(fù)偏壓，使濺射離子在電場的作用下加速撞擊靶表面，產(chǎn)生濺射作用。

真空鍍膜機(jī)等離子體發(fā)生控制系統(tǒng)

真空鍍膜機(jī)這種鍍膜機(jī)具有非常靈活的控制方式，例如濺射速率可以通過調(diào)節(jié)靶材偏壓和改變等離子體源的射頻功率這兩種途徑進(jìn)行調(diào)節(jié)。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計是實現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵，而這種參數(shù)闊范圍的可控性使得特定的應(yīng)用能夠獲得優(yōu)化的工藝參數(shù)。此外，還可以通過控制系統(tǒng)的真空度來進(jìn)行濺射速率的調(diào)節(jié)。

真空鍍膜機(jī)中所示曲線為靶電流與偏壓曲線、恒定電流密度時濺射速率與靶偏壓的關(guān)系，其中恒定電流時射頻功率為500W。