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蝕刻:蝕刻(etching)是將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理du撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻的原理zhi是氧化還原反應(yīng)中的置換dao反應(yīng):2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類(lèi)。
顯影:顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中,讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過(guò)程。通過(guò)堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。
這兩種極端的情況很容易理解,下面我們考慮現(xiàn)實(shí)生活中可能出現(xiàn)的情況。當(dāng)我們拍攝一張照片時(shí)曝光一幅膠片,會(huì)發(fā)生什么呢?強(qiáng)光會(huì)落到膠片上的某些區(qū)域,弱一點(diǎn)的光會(huì)落到另外一些區(qū)域,而在某些區(qū)域上根本就沒(méi)有任何光線,從而出現(xiàn)如下結(jié)果:
膠片上被極亮度光線照射的區(qū)域,在顯影時(shí)。其上幾乎所有的鹵化銀晶體都將轉(zhuǎn)化成黑色的金屬銀,這些區(qū)域在底片上是黑色的。