NR9 3000P光刻膠報價滿意的選擇,北京賽米萊德有限公司

光刻膠介紹

光刻膠介紹

光刻膠(又稱光致抗蝕劑)，是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。光刻膠具有光化學敏感性，其經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術(shù)中的關鍵性化工材料，被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。

光刻膠

北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY，此款負膠的設計適用于比較寬的波長范圍和i線（366納米）曝光工具。NR9-3000PY相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢：-優(yōu)異的分辨率性能-快速地顯影-可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度-耐受溫度100℃-室溫儲存保質(zhì)期長達3年。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側(cè)壁角度，是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢：

光刻膠國內(nèi)的研發(fā)起步較晚

光刻膠的研發(fā)，關鍵在于其成分復雜、工藝技術(shù)難以掌握。中國在2020年PCB產(chǎn)值有望達到311億美元，在2015-2020年期間，年復合增長率略高于國際市場，為3。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑，開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多，需從低聚物結(jié)構(gòu)設計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設計和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、終使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面進行調(diào)整。因此，要自主研發(fā)生產(chǎn)，技術(shù)難度非常之高。

在光刻膠研發(fā)上，我國起步晚，2000年后才開始重視。近幾年，雖說有了快速發(fā)展，但整體還處于起步階段。事實上，工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有著很大的差距，尤其是材料及設備都仍依賴進口。