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光刻膠工藝
普通的光刻膠在成像過程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對比度,從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能,F(xiàn)uturrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。該技術(shù)的引入,可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復(fù)雜性和光刻成本的增加。1Futurre光刻膠黏附性好,無需使用增粘劑(HMDS)1。
光刻膠的重要性
在北京化工大學(xué)理學(xué)院院長聶俊眼里,我國雖然已成為世界半導(dǎo)體生產(chǎn)大國,但面板產(chǎn)業(yè)整體產(chǎn)業(yè)鏈仍較為落后。目前,上游電子化學(xué)品(LCD用光刻膠)幾乎全部依賴進口,必須加快面板產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心材料基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)化進程,才能支撐我國微電子產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。光刻膠國內(nèi)的研發(fā)起步較晚光刻膠的研發(fā),關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。
“假如我們把光刻機比作一把菜刀,那么光刻膠就好比是要切割的菜,沒有高質(zhì)量的菜,即使有了鋒利的菜刀,也無法做出一道佳肴。”日前,江蘇博硯電子科技有限公司技術(shù)部章宇軒在接受科技日報記者采訪時說。
光刻膠編碼 HS編碼: |
3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋] |
中文描述: | 不含銀的感光乳液劑 (CIQ碼:301:液體) |
英文描述: | Non--0--silver light-sensitive emulsion agent |
申報要素: | 0.品牌類型;1.出口享惠情況;2.用途;3.包裝;4.成分;5.是否含銀;6.品牌;7.型號;8.是否有感光作用(以下要素僅上海海關(guān)要求)9.GTIN;10.CAS |
申報要素舉例: | / 1.感光劑;2.用途:感光材料,用于噴墨制版機;3.包裝:瓶裝;4.成分:重氮樹脂94%以上;5.無品牌;EUV光刻光路基于反射設(shè)計,不同于上一代的折射,其所需光刻膠主要以無機光刻膠為主,如金屬氧化物光刻膠。6.無型號 |
單位: | 千克 |
PR1-1000A1
NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
和接觸式光刻等工具。
顯影之后,NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年
Lift-Off工藝
應(yīng)用領(lǐng)域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。
濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)
附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C
Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設(shè)計用于i 線(365
nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻