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離子屬刻蝕機的注意事項
創(chuàng)世威納——專業(yè)離子束刻蝕機供應商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?
#.在設備工作時,禁止扶、靠設備,禁止觸摸高頻電纜和線圈,以免發(fā)生意外
#.高頻電源實際使用功率不能超過較大限制#.檢查設備時,必須關機后切斷電源
#. 工作場地必須保持清潔、干燥,設備上及設備周圍不得放置無關物品,特別是易1燃、易1爆物品
#.長期停放時注意防潮,拆除電源進線,每隔3-5天開一次機,保證反應室真空以免被污 染
#.設備停機、過夜也要保持反應室真空,如停機較長時間后再進行刻蝕工藝,需先進行一次空載刻蝕,再刻蝕硅片
反應離子刻蝕的原理
在反應離子刻蝕中,氣體放電產生的等離子體中有大量化學活性的氣體離子,這些離子與材料表面相互作用導致表面原子產生化學反應,生成可揮發(fā)產物。這些揮發(fā)產物隨真空抽氣系統(tǒng)被排走。隨著材料表層的“反應-剝離-排放”的周期循環(huán),材料被逐層刻蝕到特定深度。除了表面化學反應外,帶能量的離子轟擊材料表面也會使表面原子濺射,產生一定的刻蝕作用。所以,反應離子刻蝕包括物理和化學刻蝕兩者的結合。
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離子束刻蝕的入射角
在離子束刻蝕過程中,選擇合適的入射角可以提高刻蝕效率,這只是一個方面。另一個方面是靠合適的入射角度控制刻蝕圖形的輪廓。下圖給出了不同角度的刻蝕結果。
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離子束刻蝕機
離子束技術的應用涉及物理、化學、生物、材料和信息等許多學科的交叉領域。離子束加工在許多精密、關鍵、高附加值的加工模具
等機械零件的生產中得到了廣泛應用。一些國家用于軍事裝備的建設上,如改善蝸輪機主軸承、精密軸承、齒輪、冷凍機閥門和活塞的性能。離子注入半導體摻雜已成為超大規(guī)模集成電路微細加工的關鍵工藝,導致出現了80年代集成電路產業(yè)的騰飛。
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