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光刻膠分類
市場上,光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn),可以進(jìn)行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類,光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。使用正性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相同;使用負(fù)性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相反。
按照感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,光刻膠可以分為①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點(diǎn);②光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。③光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,可以制成負(fù)性光刻膠。
按照曝光波長分類,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同,通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,波長越小,加工分辨率越佳。國外研究機(jī)構(gòu)預(yù)測,PCB市場年復(fù)合增長率可達(dá)3%,到2020年,PCB全球市場規(guī)模將達(dá)到610億美元。
?Futurrex
提供先進(jìn)化學(xué)技術(shù)的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務(wù)覆蓋范圍包括北美,亞太以及歐洲
基于多樣化的技術(shù)
應(yīng)用領(lǐng)域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機(jī)電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶:從財(cái)富100強(qiáng)到以風(fēng)險(xiǎn)投資為背景的設(shè)備研發(fā)及制造公司
使命
目標(biāo)
提供特殊化學(xué)品和全新工藝來增加客戶的產(chǎn)能
策略
提供獨(dú)特的產(chǎn)品來優(yōu)化生產(chǎn)制程,以提高設(shè)備能效
領(lǐng)的技術(shù)提升生產(chǎn)過程中的整體性價(jià)比
工藝步驟的減少降低了成本和產(chǎn)生瑕疵的可能
增加客戶的產(chǎn)能和生產(chǎn)的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構(gòu)造、金屬及介電層上的圖形轉(zhuǎn)換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產(chǎn)過程中,不含有害溶劑
支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功
發(fā)展
Futurrex在開發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史
我們的客戶一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強(qiáng)勢的專利產(chǎn)品。
在晶體管(transistor) ,封裝,微機(jī)電。顯示器,OLEDs,波導(dǎo)(waveguides) ,VCSELS,
成像,電鍍,納米碳管,微流體,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。
目前Futurrex有數(shù)百個(gè)專利技術(shù)在美國專利商標(biāo)局備案。
Futurrex 產(chǎn)品目錄
正性光刻膠
增強(qiáng)粘附性正性光刻膠
負(fù)性光刻膠
增強(qiáng)粘附性負(fù)性光刻膠
先進(jìn)工藝負(fù)性光刻膠
用于lift-off工藝的負(fù)性光刻膠
非光刻涂層
平坦化,保護(hù)、粘接涂層
氧化硅旋涂(spin-on glas)
摻雜層旋涂
輔助化學(xué)品
邊膠清洗液
顯影液
去膠液
Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無需加增粘劑(HMDS)