微弧氧化電源使用說明性價(jià)比高,日照微弧

        微弧氧化采用較高的工作電壓，將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域。微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高，但并不意味著微弧氧化就屬于市場(chǎng)的專有產(chǎn)物。采用該技術(shù)可在鋁、鎂合金表面生長(zhǎng)一層致密的陶瓷膜,這層保護(hù)膜 與基體結(jié)合力強(qiáng)、尺寸變化小,耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能得到極大改善,在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

     微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

（1）氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

（2）原位生長(zhǎng)。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無污染：無環(huán)保限制元素加入，基本無廢水排放。

          制備工藝簡(jiǎn)單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng)；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000－2000小時(shí) ；鎂

        合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，1300℃

         沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同,表面電阻達(dá)  109－12Ω

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微弧-電泳工藝簡(jiǎn)介

      微弧電泳復(fù)合處理工藝的核心是以微弧氧化處理工藝取代磷化（或陽極氧化）等前處理，正是由于微弧氧化處理的工藝特點(diǎn)及其形成陶瓷層的表面特征，才得以實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)化電泳工藝、大幅度提高鋁、鎂合金耐蝕性的目的。

      鋁合金微弧－電泳氧化膜層應(yīng)控制在5μ以下；鎂合金膜層控制在5－15μ為宜。

      微弧－電泳工藝流程：氧化  —  清洗—   噴淋清洗—  熱風(fēng)烘干—  電泳    —噴淋清洗  —  烘干固化

微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于哪些方面？

       目前微弧氧化技術(shù)根據(jù)其制備的膜層特性，在眾多領(lǐng)域有所應(yīng)用，如耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化、熱阻隔、生物活性、高阻抗等。尚有許多其他方面的應(yīng)用前景有待于進(jìn)一步挖掘。如果根據(jù)材料本身的應(yīng)用范圍來講，鋁合金可能希望改善其表面耐磨、耐腐蝕等性能，鎂合金耐腐蝕性能較差，進(jìn)行微弧氧化多為提高其表面耐腐蝕性能，生物材料用鎂合金需提高其生物相容性。微弧氧化表面處理、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化哪家好。鈦合金用于航空航天領(lǐng)域需提高膜層的耐高溫性能及耐腐蝕性能，應(yīng)用于生物材料則通常需改善其生物活性。在一些電子元器件或電場(chǎng)中的器件，微弧氧化膜層可提高其絕緣特性。因此，微弧氧化技術(shù)應(yīng)用于何種領(lǐng)域需試環(huán)境而論。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源