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發(fā)布時間:2021-06-20 08:14  






正負(fù)光刻膠

正負(fù)光刻膠

光刻膠分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負(fù)性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。正膠的圖像與掩模板的圖像是一致的,故此叫正膠,利用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。

一般來說線寬的用正膠,線窄的用負(fù)膠!goodpr是大陸比較多公司采用的,但是Futurre光刻膠在國外是比較有名氣的,包括很多大型企業(yè)都有用,膜厚做的也比較厚從18um-200um都可以做到,看你對工藝的要求了。 正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度,正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率,但是薄負(fù)性膠會影響孔。同種厚度的正負(fù)膠,在對于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌,正膠難以企及。賽米萊德提供美國Futurrex的光刻膠的供應(yīng)與技術(shù)參數(shù)。


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6,堅(jiān)膜

堅(jiān)膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象,能使膠膜附著能力增強(qiáng),康腐蝕能力提高。

堅(jiān)膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140 10-30min

7,顯影檢驗(yàn)

光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準(zhǔn)不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡

小孔、小島。

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質(zhì)期長達(dá)3 年



正性光刻膠的金屬剝離技術(shù)

正性膠的金屬剝離工藝對于獲得難腐蝕金屬的細(xì)微光刻圖形比常規(guī)的光刻膠掩蔽腐蝕法顯示了優(yōu)越性。本文首先對金屬剝離工藝中的正、負(fù)光刻膠的性能作了對比分析。認(rèn)為正性光刻膠除圖形分辨率高而適應(yīng)于微細(xì)圖形的掩膜外,它還具有圖形邊緣陡直, 去膠容易等獨(dú)特性能,比負(fù)性光刻膠更有利于金屬剝離工藝。然后給出了具體的工藝條件,并根據(jù)正性光刻膠的使用特點(diǎn)指出了工藝中的關(guān)鍵點(diǎn)及容易出現(xiàn)的問題。如正性光刻膠同GaAs表面的粘附性較差,這就要求對片子表面的清潔處理更為嚴(yán)格。為了高止光刻圖形的漂移控制光刻圖形的尺寸,對曝光時同特別是顯影液溫度提出了嚴(yán)格的要求。由于工藝中基本上不經(jīng)過腐蝕過程,膠膜的耐腐蝕性降到了次要地位。隨著12寸先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用,193nm及其它先進(jìn)光刻膠的需求量將快速增加。


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光刻膠穩(wěn)定性

化學(xué)穩(wěn)定性:在正常儲存和操作條件下,在密閉容器中室溫穩(wěn)定。

避免的條件: 火源、濕氣、過熱的環(huán)境。

不相容的其他材料: 強(qiáng)氧化劑。

光刻膠毒理資料

淡黃色液體,氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。

毒性數(shù)據(jù)

皮膚:可以通過皮膚吸收而引起全身性的癥狀,類似于吸入。長時間或重復(fù)接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。

眼睛:引起眼睛發(fā)炎。

吸入:吸入時可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導(dǎo)致困倦和頭暈。

攝食:吞食有害。

延遲效應(yīng):肝和損害,以及動物實(shí)驗(yàn)中有報道血液和GU髓有影響。


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