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化學(xué)沉積鎳:此方法可經(jīng)由良好的控制而得到不錯 的導(dǎo)電層,一般它須要在高溫浴之下進行反應(yīng),一但光 阻片的處理不當,很容易在其過程之中,將使其光阻剝 離或形成裂縫,且其將來的化學(xué)藥劑的廢棄處理亦是一 大問題。
真空蒸鍍法:真空蒸鍍可說是好的附著導(dǎo)電層處 理方式,但是由於真空蒸鍍機的設(shè)備問題、操作技術(shù)及 真空度要求等原因,使一般人較少使用。
以可導(dǎo)電的原模作陰極,電鑄材料做陽極,兩極均進入電鑄液中,當在兩極上通入直流電源后,陽極上的金屬原子失去了電子成為正金屬離子進入電鑄液,向陰極流動,并在陰極上獲得電子成為金屬原子沉積在原模表面上,經(jīng)過一定時間,陰極原模上的電鑄層逐漸加厚并達到預(yù)定厚度,即可停止,取出陰極原模,進行脫模,即可獲得與原模型面凹凸相反的電鑄件。由于壓鑄工藝的特點,正確選用各工藝參數(shù)是獲得優(yōu)質(zhì)鑄件的決定因素,而模具又是能夠正確選擇和調(diào)整各工藝參數(shù)的前提,模具設(shè)計實質(zhì)上就是對壓鑄生產(chǎn)中可能出現(xiàn)的各種因素預(yù)計的綜合反映。