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光譜膜厚儀多重優(yōu)惠【一六儀器】

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發(fā)布時間:2020-12-21 05:41  







一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀 

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005umxiao測量面積0.002m㎡  深凹槽20mm以上

鍍層厚度分析儀使用注意事項

1.儀器供電電壓必須與儀器銘牌上的電壓一致。儀器必須使用三線插頭連到一個已接地的插座上。

2.鍍層厚度分析儀為精密儀器,建議配備的穩(wěn)壓電源。計算機和儀器應配備不間斷電源(UPS)。

3.鍍層厚度分析儀應特別注意與存在電磁的場合隔離開來。

4.儀器適合在10~40℃(50~104℉)的環(huán)境溫度下操作使用,在0~50℃(32~122℉)的溫度下存放。操作和存放的允許濕度范圍在0~65%之間(非冷凝)。在操作過程中,環(huán)境溫度和濕度應保持恒定。

5.儀器曝曬在陽光下時溫度極易超過50℃。所以請不要在這樣的環(huán)境下操作和存放儀器,以避免高溫對儀器造成損害。

6.為避免短路,嚴禁儀器與液體直接接觸。如果液體進入儀器,請立刻關閉儀器并在重新使用前請技術人員整體檢查儀器。

7.鍍層厚度分析儀不能用于酸性環(huán)境和場合。

8.不要弄臟和刮擦元素片或調校標準片,否則會造成讀數(shù)錯誤。

9.不要用任何機械或化學的方法清除元素片或調校標準片上的污物。如果必要的話,可以用一塊不起毛的布輕輕擦除臟物。




常規(guī)鍍層厚度分析儀的原理

對材料表面保護、裝飾形成的覆蓋層,如涂層、鍍層、敷層、貼層、化學生成膜等,在有關國家和國際標準中稱為覆層(coating)。覆層厚度測量已成為加工工業(yè)、表面工程質量檢測的重要一環(huán),是產品達到優(yōu)等質量標準的必備手段。為避免短路,嚴禁儀器與液體直接接觸,如果液體進入儀器,請立即關閉儀器。為使產品國際化,我國出口商品和涉外項目中,對覆層厚度有了明確的要求。

覆層厚度的測量方法主要有:楔切法,光截法,電解法,厚度差測量法,稱重法,X射線熒光法,β射線反向散射法,電容法、磁性測量法及渦流測量法等。






江蘇一六儀器    X熒光光譜測厚儀

下照式設計:可以快速方便地定位對焦樣品。

  無損變焦檢測:可對各種異形凹槽進行無損檢測,凹槽深度范圍0-90mm。

  微聚焦射線裝置:可檢測面積小于0.002mm2的樣品,可測試各微小的部件。

  接收:即使測試0.01mm2以下的樣品,幾秒鐘也能達到穩(wěn)定性。

  精密微型滑軌:快速精準定位樣品。

  EFP先進算法軟件:多層多元素,甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。


       江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產、銷售的高新技術企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團隊具備十年以上的從業(yè)經驗,經與海內外多名專家通力合作,研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

       X熒光鍍層測厚儀金屬成分含量的測定

在包含某種元素1的樣品中,照射一次X射線,就會產生元素1的熒光X射線,不過這個時候的熒光X射線的強度會隨著樣品中元素1的含量的變化而改變。元素1的含量多,熒光X射線的強度就會變強。這幾類的設備都是根據(jù)客戶實際需要而設計的,例如:使用無X、Y軸移動裝置的也很多,結構簡單,樣品水平移動完全靠手動移動,這種設備適合于樣品面積較大,定位比較容易的測試對象。注意到這一點,如果預先知道已知濃度樣品的熒光X射線強度,就可以推算出樣品中元素1的含量。采用定量分析的時候,可以在樣品中加入高純度的二氧化硅,作為參比樣,并且摻量是已知的。這樣可以間接知道其他組分的含量。


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