鋁微弧氧化技術(shù)近期行情

微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。實驗表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

微弧氧化技術(shù)特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應(yīng)在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結(jié)合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強和再生重復(fù)使用率高，因而對環(huán)境污染小，區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保，也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化技術(shù)的內(nèi)容和工藝流程

　　微弧氧化技術(shù)主要針對對象是鋁、鎂、鈦等輕金屬以及他們的合金。微弧氧化技術(shù)是在普通陽極氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，進一步提高電壓，使電壓超出法拉第區(qū)，達到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現(xiàn)火花放電現(xiàn)象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的高性能，又保持了陽極氧化膜與基體的結(jié)合力。下面我們一起了解一下鋁合金的微弧氧化技術(shù)與工藝流程。鋁及鋁合金材料的微弧氧化技術(shù)內(nèi)容主要包括鋁基材料的前處理；微弧氧化；后處理三部分。鋁合金微弧氧化工藝流程如下：鋁基工件→化學除油→清洗→微弧氧化→清洗→后處理→成品檢驗。當然微弧氧化的效果，在氧化過程中受多方面因素的影響，折扣要求需要專業(yè)二熟練的操作。鎂合金微弧氧化、鈦合金微弧氧化、微弧氧化技術(shù)