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發(fā)布時間:2020-11-01 14:33  







因此需要合理設(shè)計鍍膜設(shè)備的抽氣系統(tǒng),保證膜材蒸汽分子到達基片表面的速率高于殘余氣體分子到達的速率,以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染,提高膜層的純度。此外,在10-4Pa時真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上),水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會發(fā)生化學反應(yīng),生成氧化物而釋放出氫氣。因此,為了減少殘余氣體中的水分,可以提高真空室內(nèi)的溫度,使水分解,也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應(yīng)注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前,可先用擋板擋住基片,然后對膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



在ji小空間的電流密度極高,弧斑尺寸ji小,估計約為1μm~100μm,電流密度高達l05A/cm2~107A/cm2。每個弧斑存在極短時間,爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料,蒸發(fā)離化后的金屬離子,在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑,許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失,所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源,是在陰極背后配置磁場,使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng),有利于離子增大能量轟擊量體,采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜,離化率較高,所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制



真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩薄仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、;價廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于汽車、摩托車燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。.數(shù)控刀具PVD涂層技術(shù)PVD技術(shù)出現(xiàn)于,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。zui初在高速鋼dao具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視,人們在開發(fā)gao性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時,也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制


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