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鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。央企品牌,上市公司,品質(zhì)之選!
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鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態(tài)線性范圍和更低的背景。
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,有效穩(wěn)定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000
ICP光譜儀精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣 CCD 采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
Plasma 2000 技術特點
1. 優(yōu)異的光學系統(tǒng)
2. 固態(tài)有效射頻發(fā)生器,體積更加小巧
3. 流程自動化,狀態(tài)監(jiān)控及自動保護
4. 科研級檢測器,極高的紫外量化效率
5. 強大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強大
9. 智能譜圖標定
10. 智能干擾矯正