AF真空鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質(zhì)量，還會(huì)產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對(duì)原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境，減少擴(kuò)散泵返油對(duì)玻璃的污染。同時(shí)可適當(dāng)提高陰極的濺射功率，以增加粒子動(dòng)能及擴(kuò)散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì)，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強(qiáng)度（B）對(duì)膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強(qiáng)度B，因?yàn)樗酱艌鰪?qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個(gè)均勻的數(shù)值。而實(shí)際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時(shí)間的推移，產(chǎn)生一定的變化，而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗(yàn)證。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備具有結(jié)構(gòu)合理、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低、工作穩(wěn)定，且膜層均勻、成膜質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

可鍍基材表面狀態(tài)：電鍍亮面、啞光面（半啞、全?。⒐に囯婂?、拉絲、雨滴等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等?？筛鶕?jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。

真空鍍膜機(jī)鍍膜原理：

高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

1.全表面單層鍍膜（FC）:所有接觸空氣的玻璃表面都鍍了單層減反增透膜。如果在所有的空氣介面上都鍍上單層減反增透膜，會(huì)在一個(gè)波段上取得更高的透光率。為方便工藝，在全表面單層減反膜的設(shè)計(jì)中，某一片的二個(gè)面中心波長通常一致。

2.多層減反增透膜和寬帶膜（MC）:單層膜的剩余反射率仍顯高，偏色現(xiàn)象比較嚴(yán)重。要進(jìn)一步提高透光率，可用雙層Ｖ形增透膜，用層鍍膜控制鏡片的反射率，第二層鍍膜改善光透射率。對(duì)于單層氟化鎂膜，光學(xué)玻璃的折射率ng是太低，可先鍍一層厚度為λc2/4（λc2為光在鍍膜中的波長）的折射率大于鏡片折射率的一氧化硅膜（折射率為nc2），這時(shí)薄膜和基片的組合系統(tǒng)可以用一折射率為v=nc2^2/ng的假想基片來提高鏡片的折射率，然后鍍上一層λc1/4氟化鎂膜層來減少反射率。但對(duì)于偏離λ的波長，不能等價(jià)也不能滿足干涉相消的條件，故分光曲線呈Ｖ形，色彩仍不平衡。

要進(jìn)一步消除彩斑幻象，平衡色彩可用雙層或多層Ｗ形寬帶減反增透膜，多層減反增透膜系還原真實(shí)色彩，并不是要求鏡片在可見光(370nm―680nm)光譜范圍內(nèi)透過率一致。而是要求在藍(lán)、綠、紅光（370nm―480nm、500-550nm、580nm―680nm）三個(gè)通道通過的光線恰好可以合成標(biāo)準(zhǔn)的白光。這種膜系的反射率曲線在520nm-540nm區(qū)間形成一個(gè)0.8%左右的反射峰，在440nm和640nm處有二個(gè)反射谷，形狀像W曲線，所以叫W形減反增透膜。這種膜系的反光為翠綠色所以也稱減反綠膜。