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1. 加強(qiáng)來料檢查,對來料產(chǎn)品孔洞,砂眼,麻點,刮花,缺損及拋光效果嚴(yán)峻把關(guān),強(qiáng)化前處理,去向產(chǎn)品表面的油污。2. 嚴(yán)峻把關(guān)加工流程操作,從產(chǎn)品掛架清洗到產(chǎn)品入爐電鍍前,每道工序必須有QC品檢OK方可實行下道工序。入爐前產(chǎn)品掛架要根據(jù)產(chǎn)品大小形狀挑選合理掛具和掛架辦法。3. 入爐真空電鍍時間的把控,嚴(yán)峻按的時間,足分足秒,使電鍍膜層抵達(dá)均勻統(tǒng)一。4. 產(chǎn)品出爐后由QC一一品檢,檢查產(chǎn)品色彩是否統(tǒng)一,有無遮擋或起泡變形現(xiàn)象。5. 對每一爐電鍍產(chǎn)品進(jìn)行48小時人工汗檢驗和耐磨檢驗。
真空電鍍生產(chǎn)廠家在真空中制備膜層,包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。