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影響鍍膜機磁控靶點火電壓的幾個因素

氣體壓力對點火電壓的影響：在磁控靶濺射鍍膜工藝過程中，由于磁控靶的陰-陽極間距一經(jīng)確定就是一個大體不變的值，工作氣體的壓力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范圍內(nèi)變化可能會對點火電壓產(chǎn)生較大的影響，總的變化趨勢為：隨著工作氣體的壓力的逐步增大，磁控靶點火電壓相應降低。不同的磁控靶、不同材質的靶材，靶啟輝點火的工作氣體壓強不盡相同。

電源對點火電壓的影響：在同等條件下，選用射頻靶電源比選中頻或直流靶電源，磁控靶陰極點火電壓和工作(濺射)電壓都會要降低;選用射頻、中頻正弦半波或脈沖靶電源，比選低頻率同類波形靶電源，陰極點火電壓和工作(濺射)電壓均會要降低;

手機真空納米鍍膜機的特點

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。

(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

真空鍍膜機酸洗應該注意什么

酸洗設備應在通風設備上進行，并戴上橡膠手套。把零件到清洗槽內(nèi)的酸或堿，要悄悄的，真空鍍膜機無磕碰和飛濺。此外，常用的酸洗槽盆應加蓋。后，完成了這項作業(yè)，應切斷水。

安全標準：真空體系，真空體系，高溫真空泵油加體系的運用，真空鍍膜機稍有不小心燃燒的風險，所以在作業(yè)的過程中，有必要嚴厲操作過程中裝置和操作標準，要穩(wěn)重，熱泵經(jīng)歷人是風險的，旋轉部件也許損傷人的風險，所以要注意在生產(chǎn)過程中不行挨近的增壓泵和擴散泵，滑閥泵與羅茨泵的手術前護罩有必要是完好的，人不行近。真空鍍膜機的設備卷繞體系也許是風險的損傷在操作過程中的人，真空鍍膜機所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快，不超越30米/分鐘，速度不超越10米/分鐘的影片。