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發(fā)布時間:2021-07-08 07:13  






為進(jìn)一步提高高純氧氣的內(nèi)外質(zhì)量,達(dá)到內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn),更好地適應(yīng)和滿足市場需要,為下一步真正達(dá)到和超過國標(biāo)要求創(chuàng)造條件,生產(chǎn)部籌劃、組織對高純氮、高純氬等高純氣體的生產(chǎn)成立高純氣生產(chǎn)小組,采取定崗、定人、專職、專瓶的控制措施,并對高純氣生產(chǎn)及管理制定了嚴(yán)格的規(guī)范,近一個月來進(jìn)行了人員培訓(xùn)、流程熟悉及試生產(chǎn)等工作,已逐步走上正規(guī)。對滿足客戶需求,提高企業(yè)信譽(yù)有了一個良好的開端。在高純氧氣高爐中,例如粉化煤等的注入有助于控制回旋區(qū)的火焰溫度,但粉化煤注入率最終受到煤燃燒效率的限制。



同時,高純氧氣高爐也有自身內(nèi)在的限制。由于爐腹氣體體積下降,在還原豎井區(qū)域的固體材料的加熱潛力比傳統(tǒng)高爐低,并且需要在軸上面注入預(yù)熱氣體去補(bǔ)償還原豎井區(qū)域的熱供應(yīng)不足。

在高純氧氣高爐中,例如粉化煤等的注入有助于控制回旋區(qū)的火焰溫度,但粉化煤注入率終受到煤燃燒效率的限制。為了控制火焰溫度需要額外注入一些爐頂煤氣,爐頂冷氣的注入比例對降低焦比沒有貢獻(xiàn),更確切的說它能增加煉鐵過程中還原劑和能量的消耗。





三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體,是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體,在離子蝕刻時裂解為活性氟離子,這些氟離子對硅和鎢化合物,高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性(對氧化硅和硅),它在蝕刻時,在蝕刻物表面不留任何殘留物,是非常良好的清洗劑,同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。除了氣體外,所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、溫度、時間等條件影響。


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