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鍍硬鉻的槽液配制

㈠新配槽液一般按鉻酐200G/L，ST—927EK 24G/L，再加入一定量的試劑硫酸，使鉻酐與硫酸的比在100?1.0~1.5范圍內(nèi)。

㈡配制步驟：

①加入2/3體積的去離子水（不能含有氯離子或硫酸根離子）于潔凈的鍍槽中，加熱至45oC~50oC左右。

②在連續(xù)攪拌下逐步加入所需的鉻酐。

③在連續(xù)攪拌下分別加入所需量的ST927—EK和硫酸。

④將溶液攪勻后，加入去離子水至蕞終體積。驗(yàn)證槽液的濃度，必要時(shí)予以調(diào)整。

⑤加熱溫度至55~65oC。加入適量經(jīng)本公司認(rèn)可的抑霧劑。

⑥電解3~4小時(shí)后即可試鍍。

電鍍硬鉻工藝，鉻是一種微帶天藍(lán)色的銀白色金屬，具有很強(qiáng)的鈍化性能，在大氣中很快鈍化，顯示出的耐腐蝕性能，因此鉻被廣泛應(yīng)用在各個(gè)領(lǐng)域。就目前對(duì)鉻應(yīng)用來(lái)說(shuō)，主要分為裝飾性鍍鉻和鍍硬鉻兩大類。

裝飾性鍍鉻是為了防止基體材料腐蝕和美化外觀，一般鍍層厚度在0.3-0.5um左右;鍍硬鉻則作為一種功能性電鍍，主要是利用金屬鉻的特性以提高機(jī)械零件的硬度、耐磨、耐蝕、耐溫等物理化學(xué)性能。一般厚度在2-50um，用于零件修復(fù)的厚度可達(dá)800-1000um。

鍍硬鉻過(guò)程中出現(xiàn)短時(shí)間斷電后，工件表面會(huì)形成較薄的氧化膜，通過(guò)階梯式給電活化基體表面后再繼續(xù)電鍍，可以保證鍍層的結(jié)合力，避免鍍層剝落。步驟如下：

(1) 分別控制直流電壓和陰極電流密度為(3.5 ± 0.5) V 和(20 ± 5) A/dm2，以保證基體上僅有析氫反應(yīng)(以鍍槽內(nèi)輕微冒氣泡為準(zhǔn))，持續(xù) 5 ～ 10 min。初生態(tài)的氫原子具有很強(qiáng)的還原能力，能夠把金屬表面的氧化膜還原為金屬[。

(2) 在 30 min 內(nèi)逐漸升高電流密度至 100 A/dm2，每 5 min 升高 20 A/dm2